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產(chǎn)品關(guān)鍵詞:福建真空鍍介質(zhì)膜廠家報(bào)價(jià),膜
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真空鍍鋁膜在平面磁控靶結(jié)構(gòu)原理中可以看出,磁控濺射源實(shí)質(zhì)上是在二極濺射的陰極靶后面設(shè)置了磁鐵,福建真空鍍介質(zhì)膜廠家報(bào)價(jià),磁鐵在靶面上產(chǎn)生水平分量的磁場。離子轟擊靶材時(shí)放出二次電子,這些電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長,被電磁場束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi)沿跑道轉(zhuǎn)圈,在該區(qū)中通過頻繁地碰撞電離出大量Ar + 用以轟擊靶材,福建真空鍍介質(zhì)膜廠家報(bào)價(jià),從而實(shí)現(xiàn)了高速濺射。電子經(jīng)數(shù)次碰撞后能量逐漸降低,福建真空鍍介質(zhì)膜廠家報(bào)價(jià),逐步遠(yuǎn)離靶面,極終以很低的能量飛向陽極基體,這使得基體的升溫也較低。由于增加了正交電磁場對(duì)電子的束縛效應(yīng),故其放電電壓(500~600V)和氣壓(10 -1 Pa)都遠(yuǎn)低于直流二極濺射。真空鍍鋁膜具有價(jià)廉、美觀及較好的阻隔性能。福建真空鍍介質(zhì)膜廠家報(bào)價(jià)
目前國內(nèi)較多真空鍍鋁膜使用丙烯酸酯底漆,并根據(jù)基材類型調(diào)整底漆配方,主要為熱固化底漆和紫外光(UV)固化底漆,適用性很好。燈具塑料件大多采用預(yù)涂底漆后鍍鋁,再鍍保護(hù)膜的方式,保護(hù)膜的實(shí)質(zhì)就是二氧化硅。SiO2薄膜具有很好的保護(hù)性,可使鋁膜在10%的堿性溶液中完好無損。為了減少預(yù)涂底漆這道工序,降低生產(chǎn)成本,有人研發(fā)了PBT免底涂材料并取得新的進(jìn)展。無論采用哪種方式,都應(yīng)對(duì)鍍鋁件進(jìn)行附著力測試,合格方可使用?;竟に嚵鞒虨椋侯A(yù)真空─離子清洗─鍍鋁─離子轟擊─鍍保護(hù)膜─放氣。真空鍍介質(zhì)膜材料鍍膜可以讓入射光線損失達(dá)30%至40%。
真空鍍鋁膜引起靶材中原子的運(yùn)動(dòng)。有的原子獲得能量后從晶格處移位,并克服了表面勢壘直接發(fā)生濺射;有的不能脫離晶格的束縛,只能在原位做振動(dòng)并波及周圍原子,結(jié)果使靶的溫度升高;而有的原子獲得足夠大的能量后產(chǎn)生一次反沖,將其臨近的原子碰撞移位,反沖繼續(xù)下去產(chǎn)生高次反沖,這一過程稱為級(jí)聯(lián)碰撞。級(jí)聯(lián)碰撞的結(jié)果是部分原子達(dá)到表面,克服勢壘逸出,這就形成了級(jí)聯(lián)濺射,這就是濺射機(jī)理。當(dāng)級(jí)聯(lián)碰撞范圍內(nèi)反沖原子密度不高時(shí),動(dòng)態(tài)反沖原子彼此間的碰撞可以忽略,這就是線性級(jí)聯(lián)碰撞。
真空鍍鋁膜需要用于水煮殺菌條件時(shí)仍然不能滿足要求。為了滿足上述要求,通過在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類的化學(xué)涂層,該涂層不僅對(duì)鍍鋁層有優(yōu)異的粘附性能,同時(shí)可以滿足后續(xù)的水煮殺菌條件。經(jīng)過真空鍍鋁后可以用于果凍、榨菜等需要水煮殺菌產(chǎn)品的包裝,可以滿足巴氏殺菌的要求,其鍍鋁層不會(huì)因?yàn)樗蠖l(fā)生氧化。 為進(jìn)一步提高真空鍍鋁膜的阻隔性能,同時(shí)保護(hù)鍍鋁層在后續(xù)的印刷、復(fù)合等加工過程中不被破壞,可以通過在鍍鋁層上涂布一層高阻隔的納米涂層或聚合物涂層來實(shí)現(xiàn)。真空鍍鋁膜基本性能要求檢驗(yàn)合格后,其包裝應(yīng)對(duì)鍍鋁件起到有效的防護(hù)作用。
鍍膜美容是漆面保護(hù)的極高措施,可以避免氧化,達(dá)到使漆面增亮、抗酸堿、抗氧化、抗紫外線等多重功效。由于膜的材料本身是一種無機(jī)物,對(duì)車漆沒有損害。一般在給車鍍膜時(shí),車身由于老化而變色脆化的漆皮及長年腐蝕形成的氧化層會(huì)一并除掉??稍黾悠崦嬗捕?,避免小的劃痕和光圈產(chǎn)生。保持時(shí)間也極長,約有一年多。鍍膜也不是十全十美的,鍍完膜時(shí)光亮度不如封釉,所以并不適合愛靚的車友,整車鍍膜的價(jià)格在千元以上。鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量。真空鍍鋁膜工藝一般采用蒸鍍和磁控濺射兩種方法。真空鍍膜系列
真空鍍鋁膜的工藝流程是比較規(guī)范的。福建真空鍍介質(zhì)膜廠家報(bào)價(jià)
真空鍍鋁膜的離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現(xiàn)象稱為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜.二極濺射是極早采用,并且是目前極簡單的基本濺射方法。直流二極濺射裝置由陰、陽極組成。用膜材(導(dǎo)體)制成的靶作為陰極,放置被鍍件的工件架作為陽極(接地),兩極間距一般為數(shù)厘米至十厘米左右。當(dāng)真空室內(nèi)電場強(qiáng)度達(dá)到一定值后,兩極間產(chǎn)生異常輝光放電。等離子區(qū)中的Ar +離子被加速而轟擊陰極靶,被濺射出的靶材原子在基體上沉積形成薄膜。福建真空鍍介質(zhì)膜廠家報(bào)價(jià)
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