■RF、CRF共通の特長①プロセスの自動化で品質(zhì)管理を容易にし、生産コストを削減スラリーの洗浄度、濃縮?脫水度を數(shù)値化し、製造プロセスを自動制御することで品質(zhì)管理が容易です。ろ過処理後の機械洗浄も自動で行います。歩留りが向上し、人手も掛からない為、生産コストを削減出來ます。②完全密閉処理で、作業(yè)環(huán)境をクリーン化ろ過処理，安徽可移動攪拌機歡迎選購、製品回収、機械洗浄の際、ろ過室の分解が一切必要ない為、全ての処理を完全密閉化した狀態(tài)で行います。作業(yè)環(huán)境をクリーン化と共に、清掃作業(yè)が無くなり、コスト低減に寄與します。スラリーの飛散や臭気の拡散、有害物質(zhì)の曝露を防止出來ます，安徽可移動攪拌機歡迎選購。応用例図５にロータリーフィルター及びセラミックロータリーフィルターによる洗浄、濃縮?脫水操作のプロセスフローを示しました。各操作は組合わせて処理する事も可能で、原料スラリーを洗浄した後、濃縮?脫水して回収も出來ます。■ロータリーフィルター(RF)■セラミックロータリーフィルター(CRF)図５洗浄，安徽可移動攪拌機歡迎選購、濃縮?脫水操作のプロセスフロー。日本吉田工業(yè)專業(yè)生產(chǎn)立式攪拌機。安徽可移動攪拌機歡迎選購

    9m/sという強い周速で処理したので、粒子が再凝集し透過率が低下したと考えられます。これらの結(jié)果から、低周速で分散処理を行うことで、高品質(zhì)なUVカット用の酸化チタンスラリーが得られることがわかりました。このことから、DAMは低ダメージでの処理が要求される製品に対して、有効なビーズミルであることがわかります。その他の微粒化実施例図18粒子徑の経時変化(チタン酸バリウム)図19粒子徑の経時変化(ITO)図20粒子徑の経時変化(ジルコニア)図21粒子徑の経時変化T)當(dāng)社ビーズミルの実績図22當(dāng)社ビーズミルの適用分野ラインナップアペックスミル型式容量(L)電動機(kW)全長(mm)幅(mm)高さ(mm)概算質(zhì)量(kg)AM-550AM-0750AM-501200AM-AM-ウルトラアペックスミル、フォールレングス?セパ?アペックスミル型式容量(L)電動機(kW)全長(mm)幅(mm)高さ(mm)概算質(zhì)量(kg)UAM(WAM)-0100UAM(WAM)-00200UAM(WAM)-00300UAM(WAM)-50450UAM(WAM)-2100550UAM(WAM)-UAM(WAM)-デュアルアペックスミル型式容量(L)電動機(kW)全長(mm)幅(mm)高さ(mm)概算質(zhì)量。湖北粉體攪拌機供應(yīng)商日本吉田工業(yè)專業(yè)銷售粉液攪拌機。

    4)分解?洗浄性が良好です機內(nèi)を構(gòu)成する主要部品の部品點數(shù)が少なく、またシンプルな構(gòu)造であるため、簡単に分解及び洗浄が可能です。また、そのシンプルな構(gòu)造は浸置き洗浄や無分解でのCIP（定置洗浄）への適用性が高く、裝置を容易に清潔に維持する事ができます。化粧品や食品などの清潔さを要する製品の製造においては、本裝置の良好な洗浄性が有効であり、日々の分解及び洗浄の含めた運用を容易化できます。(５)乳化?混合?分散の研究?開発用途に**適です本裝置はシンプルな構(gòu)造でありながらも、運転條件の変更のみで様々な製品の製造に活用できます。また小型の裝置を用いる事で、それぞれの乳化処方に適した運転條件を簡単に構(gòu)築する事が可能であり、1臺で多品種の商品開発を促進する事が可能です。また、本裝置はシンプルな構(gòu)造のため、小型の裝置で構(gòu)築した運転條件を元に、スムーズに生産機へスケールアップする事ができます。更に本裝置は、乳化処理だけではなく『低ダメージでの分散』、『各種材料の混合』、『ファイバー狀物質(zhì)の均一混合』といった多用途に用いる事が出來るため、様々な原料を用いる研究?開発用途に**適です。

    図７に炭酸カルシウムスラリー中に溶解した塩化ナトリウムの洗浄実施例を示しました。一般的なバッチ式の加圧ろ過と比較して、ロータリーフィルターでは約1／3の洗浄時間で塩化ナトリウム濃度が減少しました。図７洗浄時間と炭酸カルシウムスラリー中NaCl濃度の関係その他、以下の様な洗浄事例があります。洗浄事例業(yè)界分類固形物不純物洗浄度磁性材Fe2O3ClCl-10%→<〃〃H2SO4pH<1→〃〃NaOHpH→<9?????????ZrO2ClCl-→<光學(xué)材SiO2ClCl-1000ppm→<10ppm建材Ca3(PO4)2NH4ClpH9→光觸媒TiO2NH4ClCl-32g/L→<1g/L化成品Al(OH)3NH4ClCl-2%→電解箔CuHClpH→4塗料顔料NaClCl-10%→2%（２）濃縮?脫水操作一般的な加圧ろ過では、スラリーを脫水後にろ過室を分解し、ケーキを掻き出して回収する必要があります。一方、ロータリーフィルターでは、原料スラリーをろ過し、ろ過室內(nèi)部に固形分を溜めます。固形分の滯留狀態(tài)を自動検知し、ケーキ排出バルブを操作する事で、所定濃度に脫水されたケーキを自動排出します。この様な自動排出機構(gòu)により、クリーム狀で流動性のあるケーキを連続的に回収出來ます。日本吉田工業(yè)專業(yè)銷售混合攪拌機。

    スリット?スクリーン方式は、比較的に大徑ビーズでの処理に使用され、目標(biāo)粒子徑が100～200nm以上の処理に使用されます。遠心分離方式は、ｍｍビーズから微小ビーズでの処理に使用され、サブミクロンサイズ以下の処理にも使われ、特に目標(biāo)粒子徑が100nm以下の処理に使用されます。當(dāng)社ビーズミル一覧アペックスミル（AM）～スリット式の比較高峰～図6アペックスミル特長當(dāng)社獨自で開発した圧力検知自立式スリット幅調(diào)整バルブを採用した竪型のスリット方式ビーズミルです。ミル內(nèi)圧力の変化に応じて、スリット幅が上下に動くので、固定式スリットでは問題であったビーズ分離部での閉塞がほぼありません。主に、～3mmのビーズを使用し、數(shù)100～數(shù)10μmの粒子を數(shù)10μm～數(shù)100nmまで粉砕する目的で使用します。ビーズ分離方式にスリット方式を採用しているので、10,000mPa?s程度の高粘性スラリーも粉砕処理ができます。処理対象例食品、チタン酸バリウム、有機顔料などの粉砕処理。?食品を數(shù)100μmから數(shù)μmまで粉砕。?積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを數(shù)μmから約500nmまで粉砕。?印刷用顔料を數(shù)μmから約500nmまで粉砕。ウルトラアペックスミル。日本吉田工業(yè)專業(yè)設(shè)計螺帶攪拌機。湖北粉體攪拌機供應(yīng)商

日本吉田工業(yè)專業(yè)銷售均質(zhì)攪拌機。安徽可移動攪拌機歡迎選購

    DAM）～処理後も粒子形狀を維持～図10デュアルアペックスミルモータが1臺の1軸式のデュアルアペックスミルもラインナップされております。お客様ニーズにより、1軸式、2軸式が選定可能です。特長UAMのビーズ分離部と攪拌部を個別に回転させることができるビーズミルです。ビーズ攪拌部が低周速の場合でもビーズ分離部を高周速で運転することができます。そのため、高いビーズ分離能力を維持しつつ、強粉砕から低ダメージ分散まで様々な処理に対応できる***機です。主に、15μm～のビーズを使用し、數(shù)10μm～數(shù)μmの粒子を數(shù)μm～數(shù)100nmまでの粉砕、數(shù)100nm～數(shù)10nmまでに分散及び低ダメージ分散を目的に使用します。処理対象例顔料、電子材料などの粉砕?分散及び粒子破壊が問題となるものの分散処理。?液晶カラーフィルター用顔料を數(shù)μmから數(shù)10nmまでの低ダメージ分散。?ハードコート用ジルコニアを數(shù)ミクロンから數(shù)10nmまでの低ダメージ分散。?積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを數(shù)μmから數(shù)100nmまでの低ダメージ分散。ウルトラアペックスミルアドバンス。安徽可移動攪拌機歡迎選購

吉田工業(yè)科技（南通）有限公司創(chuàng)立于2019-02-18，總部位于江蘇省南通市，是一家機械設(shè)備的公司。公司自2019-02-18成立以來，投身于混合設(shè)備，輸送設(shè)備，過濾設(shè)備，是機械及行業(yè)設(shè)備的主力軍。日本吉田工業(yè)始終以本分踏實的精神和必勝的信念，影響并帶動同事和團隊取得成功。日本吉田工業(yè)始終關(guān)注機械及行業(yè)設(shè)備行業(yè)。海納百川，有容乃大，國內(nèi)外同行的智慧都是促使我們前行的力量。

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