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產(chǎn)品關(guān)鍵詞:北京真空鍍銅膜廠,膜
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磁控濺射鍍膜使電子產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),電子以擺線的方式沿著靶表面前進(jìn),在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷與Ar原子發(fā)生碰撞,電離出大量的Ar+離子,經(jīng)過(guò)多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,極終落在基片,北京真空鍍銅膜廠、真空室內(nèi)壁及靶源陽(yáng)極上。而Ar+離子在高壓電場(chǎng)加速作用下,與靶材的撞擊并釋放出能量,北京真空鍍銅膜廠,導(dǎo)致靶材表面的原子吸收Ar+離子的動(dòng)能而脫離原晶格束縛,北京真空鍍銅膜廠,呈中性的靶原子逸出靶材的表面飛向基片,并在基片上沉積形成薄膜。真空鍍鋁膜的整體操作時(shí)有嚴(yán)格的規(guī)范的。北京真空鍍銅膜廠
什么是真空鍍鋁膜?將卷筒狀的待鍍薄膜基材裝在真空蒸鍍機(jī)的放卷站上,將薄穿過(guò)冷卻輥(蒸鍍輥)卷繞在收卷站上,用真空泵抽真空,使蒸鍍室中的真空度達(dá)到4x10-4MPa以上,加熱蒸發(fā)舟使高純度的鋁絲在1300~1400℃的溫度下熔化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。啟動(dòng)薄膜卷繞系統(tǒng),當(dāng)薄膜運(yùn)行速度達(dá)到一定數(shù)值后,打開擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動(dòng)的薄膜基材表面沉積、冷卻,即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過(guò)控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動(dòng)速度以及蒸鍍室內(nèi)的真空度等來(lái)控制鍍鋁層的厚度,一般鍍鋁層厚度在250~500A之間。深圳防偽鐳射介質(zhì)膜系列真空鍍鋁膜應(yīng)用范圍還是比較的廣闊的。
真空鍍鋁膜的聚酯類(如PET、PBT、PC)屬于極性高分子,其表面自由能較高,表面濕張力在40dyn/cm(1dyn/cm=1mN/m)以上,與鍍鋁層結(jié)合力很好,可作無(wú)底鍍。即在基材(如PC極性高分子)上直接鍍鋁再鍍保護(hù)膜。鍍鋁保護(hù)膜具有提高鋁膜的機(jī)械強(qiáng)度,阻隔有害氣體(如大氣中的O2)或物質(zhì)對(duì)鋁膜的侵蝕[6]等作用,使鍍層具有亮麗的金屬光澤,優(yōu)異的氣體和光線阻隔性,良好的防潮、耐熱、耐穿刺性能,物品在運(yùn)輸、貯存和使用過(guò)程中不受污染、腐蝕,保持光潔亮澤。由于PC主鏈含有酯基。
真空鍍鋁膜具有比較好的金屬光澤,光反射率可達(dá)97%;且可以通過(guò)涂料處理形成彩色膜,其裝潢效果是鋁箔所不及的。真空鍍鋁膜可采用屏蔽或洗脫進(jìn)行部分鍍鋁,以獲得任意圖案或透明窗口,能看到包裝的內(nèi)容物。真空鍍鋁膜鍍鋁層導(dǎo)電性能好,能去除靜電效應(yīng),尤其包裝粉末狀產(chǎn)品時(shí),不會(huì)污染封口部分,保證了包裝的密封性能。對(duì)真空鍍鋁要求基材的耐熱性能好和揮發(fā)物質(zhì)含量低。一方面鍍鋁過(guò)程中,基材都要受蒸發(fā)源的輻射熱和蒸發(fā)物冷凝熱的作用,基材受熱升溫,若耐熱性差,就會(huì)有熱變形,使鍍膜產(chǎn)生皺紋或收縮;真空鍍鋁膜具有很好的保護(hù)性。
鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。當(dāng)光線進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)(如由空氣進(jìn)入玻璃),大約有5%會(huì)被反射掉,在光學(xué)瞄準(zhǔn)鏡中有許多透鏡和折射鏡,整個(gè)加起來(lái)可以讓入射光線損失達(dá)30%至40%。現(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜,單層增透膜可使反射減少至1.5%,多層增透膜則可讓反射降低至0.25%,所以整個(gè)瞄準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜,光線透穿率可達(dá)95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色,鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。真空鍍鋁膜在蒸鍍前需對(duì)薄膜表面進(jìn)行電暈處理或涂布黏合層。福建真空鍍銅膜的品牌
真空鍍鋁膜可采用屏蔽式進(jìn)行部分鍍鋁。北京真空鍍銅膜廠
在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對(duì)鏡頭進(jìn)行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據(jù)光學(xué)的干涉原理,在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長(zhǎng)的物質(zhì)(通常為氟化物),使鏡頭對(duì)這一波長(zhǎng)的色光的反射降至極低。顯然,一層膜只對(duì)一種色光起作用,而多層鍍膜則可對(duì)多種色光起作用。多層鍍膜通常采用不同的材料重復(fù)地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可提高鏡頭的透光率,例如,未經(jīng)鍍膜的透鏡每個(gè)表面的反射率為5%,單層鍍膜后降至2%,而多層鍍膜可降至0.2%,這樣,可減少鏡頭各透鏡間的漫反射,從而提高影像的反差和明銳度。北京真空鍍銅膜廠
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