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產(chǎn)品關(guān)鍵詞:江蘇真空鍍銀膜供應(yīng),膜
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磁控濺射鍍膜使電子產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),電子以擺線的方式沿著靶表面前進,在運動過程中不斷與Ar原子發(fā)生碰撞,電離出大量的Ar+離子,經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,極終落在基片、真空室內(nèi)壁及靶源陽極上。而Ar+離子在高壓電場加速作用下,與靶材的撞擊并釋放出能量,導(dǎo)致靶材表面的原子吸收Ar+離子的動能而脫離原晶格束縛,呈中性的靶原子逸出靶材的表面飛向基片,江蘇真空鍍銀膜供應(yīng),江蘇真空鍍銀膜供應(yīng),并在基片上沉積形成薄膜,江蘇真空鍍銀膜供應(yīng)。鍍膜常用在相機鏡頭、近視、遠視、老花鏡等矯正眼鏡上使用。江蘇真空鍍銀膜供應(yīng)
真空鍍鋁膜流淌和涂覆不均勻往往會導(dǎo)致鍍鋁產(chǎn)品報廢。涂覆件一定要有足夠的干燥溫度和時間,若干燥不好,耐高溫試驗會有鍍鋁面發(fā)霧或起皺紋等現(xiàn)象。真空鍍鋁膜時,工件裝架不當(dāng)會引起鍍鋁區(qū)域偏移而報廢;若鋁絲純度不夠或蒸發(fā)控制不當(dāng),蒸發(fā)中有雜質(zhì)逸出會形成炸鋁痕跡而殘留于塑件表面;蒸發(fā)溫度過高或過低、蒸發(fā)器表面溫度不穩(wěn)定都會在真空鍍鋁膜表面留下小顆粒白點(對著燈光觀察);真空度不好會導(dǎo)致鍍膜附著力不合格;鍍膜流量控制不好也會導(dǎo)致鍍膜發(fā)彩等。深圳PET鍍銅膜廠真空鍍鋁膜可采用屏蔽式進行部分鍍鋁。
真空鍍鋁膜反應(yīng)磁控濺射沉積過程中基板升溫較小,而且制膜過程中通常也不要求對基板進行高溫加熱,因此對基板材料的限制較少。反應(yīng)磁控濺射適于制備大面積均勻薄膜,并能實現(xiàn)單機年產(chǎn)上百萬平方米鍍膜的工業(yè)化生產(chǎn)。磁控濺射鍍膜原理:磁控濺射系統(tǒng)在陰極靶材的背后放置100~1000Gauss強力磁鐵,真空室充入1~10Pa壓力的惰性氣體(Ar),作為氣體放電的載體。在高壓作用下Ar原子電離成為Ar+離子和電子, 電子在加速飛向基片的過程中,受到垂直于電場的磁場影響。
真空對鍍膜室抽真空至5×10?2Pa時,充入氬氣430mL,利用2個適當(dāng)?shù)碾姌O間的低壓輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊達到清洗和輔助預(yù)熱鍍膜基底的作用,轟擊時間為150s;鍍鋁部分蒸發(fā)器快速升至高溫,鋁絲從預(yù)熱、熔化、蒸發(fā)鍍鋁到鍍鋁完成的時間為30s多;采用二次離子轟擊,去除膜表面粒狀顆粒,使膜層更加致密,轟擊時間為80s;鍍保護膜時間為(200±50)s,真空度為3×10?2Pa,由充入的硅油流量加少量氬氣來控制真空度,硅油流量由調(diào)節(jié)閥控制,直至放氣結(jié)束。真空鍍鋁膜的適用性還是 比較強的。真空鍍鋁膜具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性。
真空鍍鋁膜的聚酯類(如PET、PBT、PC)屬于極性高分子,其表面自由能較高,表面濕張力在40dyn/cm(1dyn/cm=1mN/m)以上,與鍍鋁層結(jié)合力很好,可作無底鍍。即在基材(如PC極性高分子)上直接鍍鋁再鍍保護膜。鍍鋁保護膜具有提高鋁膜的機械強度,阻隔有害氣體(如大氣中的O2)或物質(zhì)對鋁膜的侵蝕[6]等作用,使鍍層具有亮麗的金屬光澤,優(yōu)異的氣體和光線阻隔性,良好的防潮、耐熱、耐穿刺性能,物品在運輸、貯存和使用過程中不受污染、腐蝕,保持光潔亮澤。由于PC主鏈含有酯基。真空鍍鋁膜保證了包裝的密封性能。江蘇真空鍍銀膜供應(yīng)
真空鍍鋁膜應(yīng)用范圍還是比較的廣闊的。江蘇真空鍍銀膜供應(yīng)
真空鍍膜的功能是多方面的,這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富.總體來說,真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果.磁控濺射鍍膜,磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點,因此獲得了迅速的發(fā)展和普遍的應(yīng)用。濺射機理,入射離子轟擊靶面時,將其部分能量傳輸給表層晶格原子。江蘇真空鍍銀膜供應(yīng)
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