真空鍍鋁膜是一種廉價(jià)美觀、性能優(yōu)良、實(shí)用性強(qiáng)的包裝材料。目前應(yīng)用極多的鍍鋁薄膜主要有聚酯真空鍍鋁膜（VMPET）和CPP 真空鍍鋁膜（VMCPP）。薄膜表面鍍鋁的作用是遮光、防紫外線照射，既延長(zhǎng)了內(nèi)容物的保質(zhì)期，天津真空鍍高反射膜加工制造，又提高了薄膜的亮度，從一定程度上代替了鋁箔，也具有價(jià)廉、美觀及較好的阻隔性能，因此，真空鍍鋁膜在復(fù)合包裝中的應(yīng)用十分普遍，目前主要應(yīng)用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫(yī)藥，天津真空鍍高反射膜加工制造、化妝品的外包裝上。真空鍍鋁膜的應(yīng)用范圍還是比較的廣闊的，天津真空鍍高反射膜加工制造。真空鍍鋁膜成為一種性能優(yōu)良、經(jīng)濟(jì)美觀的新型復(fù)合薄膜。天津真空鍍高反射膜加工制造

真空鍍鋁膜具有比較好的金屬光澤，光反射率可達(dá)97%；且可以通過(guò)涂料處理形成彩色膜，其裝潢效果是鋁箔所不及的。真空鍍鋁膜可采用屏蔽或洗脫進(jìn)行部分鍍鋁，以獲得任意圖案或透明窗口，能看到包裝的內(nèi)容物。真空鍍鋁膜鍍鋁層導(dǎo)電性能好，能去除靜電效應(yīng)，尤其包裝粉末狀產(chǎn)品時(shí)，不會(huì)污染封口部分，保證了包裝的密封性能。對(duì)真空鍍鋁要求基材的耐熱性能好和揮發(fā)物質(zhì)含量低。一方面鍍鋁過(guò)程中，基材都要受蒸發(fā)源的輻射熱和蒸發(fā)物冷凝熱的作用，基材受熱升溫，若耐熱性差，就會(huì)有熱變形，使鍍膜產(chǎn)生皺紋或收縮；廣州磁控濺射無(wú)紡布鍍鋁膜系列真空鍍鋁膜既延長(zhǎng)了內(nèi)容物的保質(zhì)期，又提高了薄膜的亮度。

真空鍍膜的功能是多方面的,這也決定了其應(yīng)用場(chǎng)合非常豐富.總體來(lái)說(shuō),真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果.磁控濺射鍍膜，磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點(diǎn),因此獲得了迅速的發(fā)展和普遍的應(yīng)用。濺射機(jī)理，入射離子轟擊靶面時(shí)，將其部分能量傳輸給表層晶格原子。

磁控濺射鍍膜使電子產(chǎn)生偏轉(zhuǎn),被束縛在靠近靶表面的等離子體區(qū)域內(nèi),電子以擺線的方式沿著靶表面前進(jìn),在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中不斷與Ar原子發(fā)生碰撞,電離出大量的Ar+離子，經(jīng)過(guò)多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,極終落在基片、真空室內(nèi)壁及靶源陽(yáng)極上。而Ar+離子在高壓電場(chǎng)加速作用下,與靶材的撞擊并釋放出能量,導(dǎo)致靶材表面的原子吸收Ar+離子的動(dòng)能而脫離原晶格束縛,呈中性的靶原子逸出靶材的表面飛向基片,并在基片上沉積形成薄膜。真空鍍鋁膜從一定程度上代替了鋁箔。

真空鍍鋁膜可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質(zhì)量要求高，并對(duì)紙的定量有一定的限度。真空鍍鋁膜轉(zhuǎn)移法。是借助載體膜(真空鍍鋁膜)將金屬鋁層轉(zhuǎn)移到基材的表面而形成鍍鋁薄膜。轉(zhuǎn)移法是在直接蒸鍍法的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對(duì)基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進(jìn)行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。國(guó)外已將轉(zhuǎn)移法應(yīng)用到布、纖維、皮革等基材的鍍鋁產(chǎn)品上。我國(guó)主要采用轉(zhuǎn)移法生產(chǎn)鍍鋁紙。真空鍍鋁膜的使用方法還是比較規(guī)范的。真空鍍鋁膜基本性能要求檢驗(yàn)合格后，其包裝應(yīng)對(duì)鍍鋁件起到有效的防護(hù)作用。浙江PET鍍鋁膜供應(yīng)

真空鍍鋁膜是一種廉價(jià)美觀、性能優(yōu)良、實(shí)用性強(qiáng)的包裝材料。天津真空鍍高反射膜加工制造

真空鍍鋁膜反應(yīng)磁控濺射，以金屬、合金、低價(jià)金屬化合物或半導(dǎo)體材料作為靶陰極，在濺射過(guò)程中或在基片表面沉積成膜過(guò)程中與氣體粒子反應(yīng)生成化合物薄膜，這就是反應(yīng)磁控濺射 。反應(yīng)磁控濺射普遍應(yīng)用于化合物薄膜的大批量生產(chǎn)，這是因?yàn)椋?1)反應(yīng)磁控濺射所用的靶材料 ( 單元素靶或多元素靶 ) 和反應(yīng)氣體 ( 氧、氮、碳?xì)浠衔锏?) 純度很高，因而有利于制備高純度的化合物薄膜。(2)通過(guò)調(diào)節(jié)反應(yīng)磁控濺射中的工藝參數(shù) , 可以制備化學(xué)配比或非化學(xué)配比的化合物薄膜，通過(guò)調(diào)節(jié)薄膜的組成來(lái)調(diào)控薄膜特性。天津真空鍍高反射膜加工制造

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