真空鍍鋁膜的特點(diǎn)有哪些？①和鋁箔相比減少了鋁的用量，節(jié)省了能源和材料，降低了成本。復(fù)合用鋁箔厚度多為7～9μm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度為400A（0．04μm）左右，其耗鋁量約為鋁箔的1／200，且生產(chǎn)速度可高達(dá)700m／min。②具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現(xiàn)小孔和裂口，無(wú)揉曲龜裂現(xiàn)象，對(duì)氣體、水蒸氣、氣味，安徽雙層氣泡鍍鋁膜廠家、光線等的阻隔性提高。③具有比較好的金屬光澤，安徽雙層氣泡鍍鋁膜廠家，光反射率可達(dá)97％；且可以通過(guò)涂料處理形成彩色膜，安徽雙層氣泡鍍鋁膜廠家，其裝潢效果是鋁箔所不及的。真空鍍鋁膜工藝一般采用蒸鍍和磁控濺射兩種方法。安徽雙層氣泡鍍鋁膜廠家

真空鍍鋁膜特點(diǎn)：（1）減少了用鋁量，節(jié)省了能源和材料，降低了成本，復(fù)合用鋁箔厚度多為7～gpm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為0.05n左右，其耗鋁量約為鋁箔的1/140～1/180，且生產(chǎn)速度可高達(dá)450m/min。（2）具有優(yōu)良的耐折性和良好的韌性，很少出現(xiàn)小孔和裂口，無(wú)揉曲龜裂現(xiàn)象，因此對(duì)氣體、水蒸汽、氣味、光線等的阻隔性提高。（3）具有比較好的金屬光澤，光反射率可達(dá)97%；且可以通過(guò)涂料處理形成彩色膜，其裝潢效果是鋁箔所不及的。（4）可采用屏蔽式進(jìn)行部分鍍鋁，以獲得任意圖案或透明窗口，能看到內(nèi)裝物。深圳PET高反射鍍膜報(bào)價(jià)真空鍍鋁膜開(kāi)通冷卻源，使鋁絲在蒸發(fā)舟上連續(xù)地熔化、蒸發(fā)。

真空鍍鋁膜需要用于水煮殺菌條件時(shí)仍然不能滿足要求。為了滿足上述要求，通過(guò)在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類(lèi)的化學(xué)涂層，該涂層不僅對(duì)鍍鋁層有優(yōu)異的粘附性能，同時(shí)可以滿足后續(xù)的水煮殺菌條件。經(jīng)過(guò)真空鍍鋁后可以用于果凍、榨菜等需要水煮殺菌產(chǎn)品的包裝，可以滿足巴氏殺菌的要求，其鍍鋁層不會(huì)因?yàn)樗蠖l(fā)生氧化。 為進(jìn)一步提高真空鍍鋁膜的阻隔性能，同時(shí)保護(hù)鍍鋁層在后續(xù)的印刷、復(fù)合等加工過(guò)程中不被破壞，可以通過(guò)在鍍鋁層上涂布一層高阻隔的納米涂層或聚合物涂層來(lái)實(shí)現(xiàn)。

氧化物真空鍍鋁膜技術(shù)的應(yīng)用近年來(lái)，迅速發(fā)展微波加熱技術(shù)給微波食品包裝及需經(jīng)微波殺菌消毒的一類(lèi)商品的包裝提出了新的要求，即包裝材料不僅要具有優(yōu)良的阻隔性能，而且還要耐高溫、微波透過(guò)性好等特性，傳統(tǒng)的包裝材料很難各個(gè)方面具備這些特點(diǎn)。非金屬鍍膜可采用蒸鍍?cè)峡刹捎肧iOX、SiO2，也可以采用其它氧化物如Al2O3、 MgO、Y 2O 3、TiO2、Gd 2O 3等，其中極常用的是SiOX、AlOx。氧化物鍍膜的蒸發(fā)源有電阻式和電子束兩種，電阻式蒸發(fā)源以電阻通過(guò)發(fā)熱的原理來(lái)加熱蒸鍍?cè)?。真空鍍鋁膜在移動(dòng)的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。

真空鍍鋁膜的離子轟擊靶材將靶面原子擊出的現(xiàn)象稱為濺射.濺射產(chǎn)生的原子沉積在基體(工件)表面即實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜.二極濺射是極早采用，并且是目前極簡(jiǎn)單的基本濺射方法。直流二極濺射裝置由陰、陽(yáng)極組成。用膜材(導(dǎo)體)制成的靶作為陰極，放置被鍍件的工件架作為陽(yáng)極(接地)，兩極間距一般為數(shù)厘米至十厘米左右。當(dāng)真空室內(nèi)電場(chǎng)強(qiáng)度達(dá)到一定值后，兩極間產(chǎn)生異常輝光放電。等離子區(qū)中的Ar +離子被加速而轟擊陰極靶，被濺射出的靶材原子在基體上沉積形成薄膜。真空鍍鋁膜存放時(shí)間長(zhǎng)了，會(huì)有基材吸水引起的鍍鋁后出現(xiàn)霧狀的情況。上海真空鍍鋁膜技術(shù)

真空鍍鋁膜在蒸鍍前需對(duì)薄膜表面進(jìn)行電暈處理或涂布黏合層。安徽雙層氣泡鍍鋁膜廠家

真空鍍鋁膜反應(yīng)磁控濺射沉積過(guò)程中基板升溫較小，而且制膜過(guò)程中通常也不要求對(duì)基板進(jìn)行高溫加熱，因此對(duì)基板材料的限制較少。反應(yīng)磁控濺射適于制備大面積均勻薄膜，并能實(shí)現(xiàn)單機(jī)年產(chǎn)上百萬(wàn)平方米鍍膜的工業(yè)化生產(chǎn)。磁控濺射鍍膜原理：磁控濺射系統(tǒng)在陰極靶材的背后放置100～1000Gauss強(qiáng)力磁鐵,真空室充入1～10Pa壓力的惰性氣體(Ar),作為氣體放電的載體。在高壓作用下Ar原子電離成為Ar+離子和電子, 電子在加速飛向基片的過(guò)程中,受到垂直于電場(chǎng)的磁場(chǎng)影響。安徽雙層氣泡鍍鋁膜廠家

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