需求數(shù)量:0
價格要求:面議
所在地:江蘇省
包裝要求:
產品關鍵詞:河北螺條式攪拌機品牌企業(yè)
***更新:2020-06-11 07:02:56
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詳細說明
1.濕式ビーズミルとは濕式ビーズミルは、ビーズとスラリーが充填された容器內で攪拌ロータを高速回転し、ビーズに動きを與えることでビーズとスラリー中の粒子を接觸させ、粒子を微細化する機械です。ビーズミルは使用するビーズの大きさを変更することで、粒子に與えるエネルギーを調整することができます。エネルギーを調整することで、大きな粒子を砕く粉砕から小さな粒子の**體を解す分散まで幅広い範囲の微細化処理に適用します。2.選ぶビーズの大きさが重要!ビーズの大きさは、粉砕?分散エネルギー、ビーズと粒子の衝突頻度、※ビーズ間空間の広さに影響を與えるので,河北螺條式攪拌機品牌企業(yè),河北螺條式攪拌機品牌企業(yè)、粒子を微細化する処理條件設定の重要な要素です。粉砕?分散エネルギーは,河北螺條式攪拌機品牌企業(yè)、微細化できる粒子の大きさと硬度?処理速度などに影響します。ビーズと粒子の衝突頻度は、処理速度に影響します。ビーズ間空間の大きさは、粒子の**終到達粒子徑に影響します。※ビーズ間空間とはビーズが充填された際にできるビーズ間の空隙。(図1參照)図1ビーズ間空間粉砕処理では大きな粒子や硬い粒子を粉砕するには、強いエネルギーを粒子に與えることが必要です。
9m/sという強い周速で処理したので、粒子が再凝集し透過率が低下したと考えられます。これらの結果から、低周速で分散処理を行うことで、高品質なUVカット用の酸化チタンスラリーが得られることがわかりました。このことから、DAMは低ダメージでの処理が要求される製品に対して、有効なビーズミルであることがわかります。その他の微?;瘜g施例図18粒子徑の経時変化(チタン酸バリウム)図19粒子徑の経時変化(ITO)図20粒子徑の経時変化(ジルコニア)図21粒子徑の経時変化T)當社ビーズミルの実績図22當社ビーズミルの適用分野ラインナップアペックスミル型式容量(L)電動機(kW)全長(mm)幅(mm)高さ(mm)概算質量(kg)AM-550AM-0750AM-501200AM-AM-ウルトラアペックスミル、フォールレングス?セパ?アペックスミル型式容量(L)電動機(kW)全長(mm)幅(mm)高さ(mm)概算質量(kg)UAM(WAM)-0100UAM(WAM)-00200UAM(WAM)-00300UAM(WAM)-50450UAM(WAM)-2100550UAM(WAM)-UAM(WAM)-デュアルアペックスミル型式容量(L)電動機(kW)全長(mm)幅(mm)高さ(mm)概算質量。
DAM)~処理後も粒子形狀を維持~図10デュアルアペックスミルモータが1臺の1軸式のデュアルアペックスミルもラインナップされております。お客様ニーズにより、1軸式、2軸式が選定可能です。特長UAMのビーズ分離部と攪拌部を個別に回転させることができるビーズミルです。ビーズ攪拌部が低周速の場合でもビーズ分離部を高周速で運転することができます。そのため、高いビーズ分離能力を維持しつつ、強粉砕から低ダメージ分散まで様々な処理に対応できる***機です。主に、15μm~のビーズを使用し、數(shù)10μm~數(shù)μmの粒子を數(shù)μm~數(shù)100nmまでの粉砕、數(shù)100nm~數(shù)10nmまでに分散及び低ダメージ分散を目的に使用します。処理対象例顔料、電子材料などの粉砕?分散及び粒子破壊が問題となるものの分散処理。?液晶カラーフィルター用顔料を數(shù)μmから數(shù)10nmまでの低ダメージ分散。?ハードコート用ジルコニアを數(shù)ミクロンから數(shù)10nmまでの低ダメージ分散。?積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを數(shù)μmから數(shù)100nmまでの低ダメージ分散。ウルトラアペックスミルアドバンス。
文章來源地址: http://www.cdcfah.com/cp/221936.html
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