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    產(chǎn)品關(guān)鍵詞:安徽雙晶硅太陽(yáng)能電池片好壞

    ***更新:2020-06-18 09:22:14

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    詳細(xì)說(shuō)明

    太陽(yáng)能電池片的A規(guī)和B規(guī)的主要分標(biāo)準(zhǔn)是從外觀和機(jī)械性能等各個(gè)參數(shù)來(lái)說(shuō)的:


    外觀分;色差:A 只允許有同種顏色 B 允許有兩種相近色,(藍(lán)或深藍(lán),淡藍(lán))

    漏漿,A 不允許 B ≤3㎡

    臟污,A ≤3㎡ B ≤9㎡

    結(jié)點(diǎn);水印;主柵線缺損,多印;背電極缺損,多印;背電場(chǎng)左右偏移,多印,缺損;鋁刺;V型缺口;缺角;等.A級(jí)是優(yōu)品,B為合格品.

    另外A規(guī)為***片≥15.75% 單晶

    ≥15,安徽雙晶硅太陽(yáng)能電池片好壞.5% 多晶

    以15,安徽雙晶硅太陽(yáng)能電池片好壞,安徽雙晶硅太陽(yáng)能電池片好壞.75為例,單晶的A規(guī)的價(jià)格應(yīng)該是30-50/W之間

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    三、擴(kuò)散制結(jié)

    太陽(yáng)能電池需要一個(gè)大面積的PN結(jié)以實(shí)現(xiàn)光能到電能的轉(zhuǎn)換,而擴(kuò)散爐即為制造太陽(yáng)能電池PN結(jié)的**設(shè)備。管式擴(kuò)散爐主要由石英舟的上下載部分、廢氣室、爐體部分和氣柜部分等四大部分組成。擴(kuò)散一般用三氯氧磷液態(tài)源作為擴(kuò)散源。把P型硅片放在管式擴(kuò)散爐的石英容器內(nèi),在850---900攝氏度高溫下使用氮?dú)鈱⑷妊趿讕胧⑷萜?,通過(guò)三氯氧磷和硅片進(jìn)行反應(yīng),得到磷原子。經(jīng)過(guò)一定時(shí)間,磷原子從四周進(jìn)入硅片的表面層,并且通過(guò)硅原子之間的空隙向硅片內(nèi)部滲透擴(kuò)散,形成了N型半導(dǎo)體和P型半導(dǎo)體的交界面,也就是PN結(jié)。這種方法制出的PN結(jié)均勻性好,方塊電阻的不均勻性小于百分之十,少子壽命可大于10ms。制造PN結(jié)是太陽(yáng)電池生產(chǎn)**基本也是**關(guān)鍵的工序。因?yàn)檎荘N結(jié)的形成,才使電子和空穴在流動(dòng)后不再回到原處,這樣就形成了電流,用導(dǎo)線將電流引出,就是直流電。

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    五、等離子刻蝕

    由于在擴(kuò)散過(guò)程中,即使采用背靠背擴(kuò)散,硅片的所有表面包括邊緣都將不可避免地?cái)U(kuò)散上磷。PN結(jié)的正面所收集到的光生電子會(huì)沿著邊緣擴(kuò)散有磷的區(qū)域流到PN結(jié)的背面,而造成短路。因此,必須對(duì)太陽(yáng)能電池周邊的摻雜硅進(jìn)行刻蝕,以去除電池邊緣的PN結(jié)。通常采用等離子刻蝕技術(shù)完成這一工藝。等離子刻蝕是在低壓狀態(tài)下,反應(yīng)氣體CF4的母體分子在射頻功率的激發(fā)下,產(chǎn)生電離并形成等離子體。等離子體是由帶電的電子和離子組成,反應(yīng)腔體中的氣體在電子的撞擊下,除了轉(zhuǎn)變成離子外,還能吸收能量并形成大量的活性基團(tuán)?;钚苑磻?yīng)基團(tuán)由于擴(kuò)散或者在電場(chǎng)作用下到達(dá)SiO2表面,在那里與被刻蝕材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),并形成揮發(fā)性的反應(yīng)生成物脫離被刻蝕物質(zhì)表面,被真空系統(tǒng)抽出腔體。


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