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熱浸鍍鋅層氟鈦酸轉(zhuǎn)化膜的制備和耐蝕性能
以氟鈦酸為成膜劑、磷酸二氫錳為促進(jìn)劑對(duì)熱浸鍍鋅層表面進(jìn)行鈍化處理,獲得了氟鈦酸轉(zhuǎn)化膜。采用掃描電鏡研究了不同處理時(shí)間所得轉(zhuǎn)化膜的微觀形貌;通過(guò)中性鹽霧試驗(yàn)、電化學(xué)極化和電化學(xué)阻抗譜,直銷氟鈦酸誠(chéng)信合作,研究了不同處理時(shí)間所得轉(zhuǎn)化膜的耐蝕性。確定了氟鈦酸轉(zhuǎn)化膜的制備工藝條件為:H2TiF6(w=60%)5mL/L,Mn(H2PO4)2·2H2O15g/L,pH2.5,處理時(shí)間1min,直銷氟鈦酸誠(chéng)信合作。與未經(jīng)處理的熱浸鍍鋅試樣相比,經(jīng)氟鈦酸鈍化后的試樣在中性鹽霧試驗(yàn)中出現(xiàn)白銹的時(shí)間明顯延遲,在5%NaCl溶液中的腐蝕電流密度明顯降低,直銷氟鈦酸誠(chéng)信合作,極化電阻和電化學(xué)阻抗***增大。處理時(shí)間為1min時(shí)所得轉(zhuǎn)化膜的耐蝕性能比較好。
氟鈦酸鹽在鋁合金方面的應(yīng)用:但由于硅烷膜的厚度很小(*為幾百納米),且在腐蝕防護(hù)中*起到物理阻擋層的作用,膜層中存在孔隙和裂縫,一旦膜層遭到破壞基體金屬開(kāi)始迅速腐蝕,因此采用單-硅烷膜保護(hù)金屬的效果還不夠理想。鈦鋯鹽轉(zhuǎn)化膜是為替代0的含鉻膜而開(kāi)發(fā)的其處理液主要以IVB(鈦、鋯等)的含氟酸鹽為主要成分并加入一些添加劑,鈦鋯化學(xué)轉(zhuǎn)化處理技術(shù)工藝簡(jiǎn)單防腐蝕性能優(yōu)良是目前應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)的無(wú)鉻轉(zhuǎn)化處理工藝之- - 。金屬基體在無(wú)機(jī)物鈦鋯鹽鈍化后再經(jīng)硅烷溶液處理其耐腐蝕能力可***提高。目前已有鍍鋅板上氟鈦酸鹽協(xié)同硅烷復(fù)合膜的結(jié)構(gòu)和性能的研究[但是在鋁合金表面的報(bào)道較少。本工作采用氟鈦酸鹽對(duì)鋁合金表面的硅烷膜進(jìn)行摻雜改性,確定膜層的組成成分及結(jié)構(gòu),同時(shí)對(duì)膜層的緩蝕機(jī)理進(jìn)行了初步的探討。
采用新型氟鈦酸鹽電解液對(duì)AM60鎂合金進(jìn)行微弧氧化處理,通過(guò)改變電流密度、氧化時(shí)間、頻率和占空比4種電參數(shù)進(jìn)行對(duì)比研究,采用SEM(掃描電子顯微鏡)觀察材料的表面及截面形貌,采用EDX(能量色散X射線光譜儀)以及XRD(X射線衍射儀)確定其化學(xué)成分和相組成,通過(guò)極化曲線和阻抗譜對(duì)材料的耐蝕性進(jìn)行評(píng)價(jià)。**終確定其比較好電參數(shù)如下:電流密度3 A/dm2、氧化至420 V、頻率800 Hz、正占空比30%。所形成氧化膜表面的微孔在成膜過(guò)程被原位封閉,有效地解決了微弧氧化膜疏松多孔的問(wèn)題。在比較好工藝條件下獲得的微弧氧化膜自腐蝕電流密度可以達(dá)到1×10-7 A/cm2,其耐蝕性能優(yōu)于傳統(tǒng)電解液制備的微弧氧化膜的耐蝕性能。
文章來(lái)源地址: http://www.cdcfah.com/cp/401766.html
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