アイリッヒインテンシブミキサーによる造粒プロセスの優(yōu)位性：架橋の役割を果たす水やバインダーを均一に分散させることが可能です。ロータの回転數（せん斷力の調整）によって粉體に加える力を制御し、造粒物のサイズを調整することができます。分散ある物質中に異なる物質を均一に分け散らします。アイリッヒインテンシブミキサーによる分散プロセスの優(yōu)位性：凝集體を解し、ミクロンレベルからナノレベルの微粉體を均一に分散させることが可能です。高速で回転するロータおよび回転する混合パンにより混合パン內のデッドゾーンが少なく、また混合パンが傾斜しているため、原料の上下方向の入替が効率よく行われます，河北螺旋輸送機。粉砕粒子に機械的な力を加えたり，河北螺旋輸送機、粒子同士がぶつかり合うことにより加わる作用により細かく砕きます，河北螺旋輸送機。アイリッヒインテンシブミキサーによる粉砕プロセスの優(yōu)位性：混合パンとロータの回転數の差により亂流が生じ、効率的に粉砕が進行します。反応ふたつ以上の異なる物質の原子間の結合の変化によって異なる物質を生成させます。

    ADV）～**ダメージ均一ナノ分散～図11ウルトラアペックスミルアドバンス特長アッペックスミルシリーズの***型です。WAMの特徴を活かしつつ、ロータ部を扁平化することにより、**ダメージ均一分散ができるビーズミルです。このビーズミルは分散室の高さと幅の比率(L/D)を**適化することで、粒子の滯留時間の短縮及び遠心力の低減により粒子へのダメージを比較低限に***できます。さらに、上下での偏流が少ないため均一な処理が可能です。主に數μm～數100nmの粒子を數100nm～數10nmまでの**ダメージ分散処理を目的に使用します。処理対象例電子材料、金屬、電池材料など粒子破壊が問題となるものの分散処理。?積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを數μmから數100nmまでの低ダメージ分散。?配線材料などの金屬を數μmから數100nmまでの粒子変形のない分散。當社ビーズミル構成（ＵＡＭの場合）當社のビーズミルの基本構成はタンク、ポンプ、ビーズミルの３つで構成されています。微細化したい粒子が含まれたスラリーをタンクへ投入し、ビーズミル內にポンプで送液します。

    １）洗浄操作材料の製造プロセスにおいて、原料スラリーは様々な処理剤の添加や反応を経て、不純物が液中に溶解した狀態(tài)で生成される場合があります。材料の高品質化では、スラリー中に溶解した不純物を除去する操作が非常に重要です。そこで、ろ過操作によって、溶解した不純物を洗浄?除去する方法が広く利用されています。一般的な加圧ろ過では、図６に示した様に、先ず、原料スラリーを加圧ろ過し、ろ材表面にケーキ層を形成させます。その後、ケーキ層に洗浄水を添加、通水する事で不純物を洗い流します。しかし、粒子が圧密された狀態(tài)で洗浄を行う為、洗浄ムラが生じます。また、ろ過速度が低いので洗浄に時間が掛かります。図６一般的な加圧ろ過による洗浄方法（通水洗浄）一方、ロータリーフィルター及びセラミックロータリーフィルターは、図５に示した様に、原料スラリーを循環(huán)しながらろ過を行い、ろ液の排出量に応じて洗浄水を添加し、母液を希釈して溶解塩濃度を下げます。（循環(huán)洗浄）粒子が分散された狀態(tài)で洗浄を行うので均一に洗浄されます。また、ろ過速度が高いので短時間で処理出來ます。

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