需求數(shù)量:0
價格要求:面議
所在地:江蘇省
包裝要求:
產(chǎn)品關鍵詞:河北T型過濾器
***更新:2020-06-28 22:18:46
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當前位置:首頁?產(chǎn)品供應?機械及行業(yè)設備?混合設備?混合機?河北T型過濾器 吉田工業(yè)科技南通供應
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詳細說明
③濃度が均一で流動性のあるケーキを連続排出ケーキを排出するのに、ろ過室の分解が一切必要なく,河北T型過濾器、ラインを密閉狀態(tài)に保ちます。ケーキに流動性があるので、後工程(乾燥等)へのハンドリングが良好です。■セラミックロータリーフィルター(CRF)①ナノ粒子を完全捕捉しろ液が清澄孔徑7nm~2μmの超微細孔セラミックフィルターにより従來技術では困難であったナノサイズの粒子を完全に捕捉します。清澄なろ液を連続的に回収出來ます。セラミックフィルターのラインナップ孔徑μmμmμm60nm30nm7nm材質Al2O3Al2O3Al2O3Al2O3ZrO2TiO2MgAl2O4②目詰まりしやすいスラリーのろ過に**適粒子徑よりもフィルター孔徑が非常に小さい為、ろ布や金網(wǎng)では目詰まりしやすい微粒子スラリーやケーキ層を形成しにくい希薄スラリーに対し,河北T型過濾器、フィルターの目詰まりを低減します。③ナノ粒子スラリーでも高速ろ過を安定化高速回転するセラミックフィルターがケーキ層厚を薄い狀態(tài)で安定させる為,河北T型過濾器、一般的な加圧ろ過では、ろ過速度が非常に低いナノ粒子スラリーでも安定した高速ろ過が出來ます。
スリット?スクリーン方式は、比較的に大徑ビーズでの処理に使用され、目標粒子徑が100~200nm以上の処理に使用されます。遠心分離方式は、mmビーズから微小ビーズでの処理に使用され、サブミクロンサイズ以下の処理にも使われ、特に目標粒子徑が100nm以下の処理に使用されます。當社ビーズミル一覧アペックスミル(AM)~スリット式の比較高峰~図6アペックスミル特長當社獨自で開発した圧力検知自立式スリット幅調整バルブを採用した竪型のスリット方式ビーズミルです。ミル內圧力の変化に応じて、スリット幅が上下に動くので、固定式スリットでは問題であったビーズ分離部での閉塞がほぼありません。主に、~3mmのビーズを使用し、數(shù)100~數(shù)10μmの粒子を數(shù)10μm~數(shù)100nmまで粉砕する目的で使用します。ビーズ分離方式にスリット方式を採用しているので、10,000mPa?s程度の高粘性スラリーも粉砕処理ができます。処理対象例食品、チタン酸バリウム、有機顔料などの粉砕処理。?食品を數(shù)100μmから數(shù)μmまで粉砕。?積層セラミックコンデンサー用チタン酸バリウムを數(shù)μmから約500nmまで粉砕。?印刷用顔料を數(shù)μmから約500nmまで粉砕。ウルトラアペックスミル。
1)1パス処理でも均質なエマルション製造が可能です『アペックスディスパーサーZERO』は、機內に供給された全ての流體が同質のせん斷力(強度及び滯留時間)を受ける構造のため、1パスでも均質なエマルション製造が可能となり、処理の短時間化?裝置の小型化を実現(xiàn)可能です。特に高粘性流體では流體が受けるせん斷力にムラが発生し易いバッチ式の乳化釜と比較して、本裝置は均質なエマルション製造に有利な構造です。[実施例]下図に試験機(ZERO-7型)の1パス処理時における処理流量と液滴徑の関係を示します。処理流量を変えることにより1パス連続処理においてもミクロンレベルの液滴徑をコントロールすることができます。なお、市販されている乳液は數(shù)μmレベルのエマルションであり、本裝置を用いた場合においても同等レベルのエマルションを連続製造可能である事を示唆します。図1パス処理における処理流量と液滴徑の関係※図中に示す50%液滴徑、90%液滴徑は、液滴徑分布に示される積算値の50%及び90%となる液滴徑を示します。50%液滴徑はメディアン徑とも呼ばれ、液滴の量が中間となる液滴徑を示します。(2)部品交換を行う事なく、様々な物性。
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