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真空鍍鋁膜反應(yīng)磁控濺射，以金屬、合金、低價(jià)金屬化合物或半導(dǎo)體材料作為靶陰極，在濺射過程中或在基片表面沉積成膜過程中與氣體粒子反應(yīng)生成化合物薄膜，這就是反應(yīng)磁控濺...

[鍍鋁膜]2020-08-30 22:19:40

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真空鍍鋁膜極高加熱溫度可達(dá)1700℃，電子束蒸發(fā)源利用加速電子碰撞蒸鍍?cè)隙蛊湔舭l(fā)，蒸發(fā)源配有電子，用磁場(chǎng)或電場(chǎng)加速并聚集電子束，使電子束集中在蒸發(fā)材料的局部...

[鍍鋁膜]2020-08-30 21:18:39

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真空鍍鋁膜可采用屏蔽或洗脫進(jìn)行部分鍍鋁，以獲得任意圖案或透明窗口，能看到包裝的內(nèi)容物。真空鍍鋁膜的鍍鋁層導(dǎo)電性能好，能去除靜電效應(yīng)，尤其包裝粉末狀產(chǎn)品時(shí)，不會(huì)污...

[鍍鋁膜]2020-08-30 20:18:45

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磁控濺射鍍膜這部分應(yīng)是生產(chǎn)線的主體, 而且是處在真空狀態(tài)下的一個(gè)系統(tǒng), 是由不銹鋼或碳鋼做成的一個(gè)個(gè)**的室體連接組成。它的兩端為了反復(fù)地使清洗過的玻璃基片進(jìn)入...

[鍍鋁膜]2020-08-30 20:18:45

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鍍膜只要保證磁場(chǎng)的均勻, 再在工作氣體的布?xì)庋b置上采用合理的方式, 在整個(gè)靶面的區(qū)域內(nèi), 實(shí)踐證明均能獲得均勻的濺射刻蝕。這是膜層橫向均勻性的重要保證?？紤]到靶...

[鍍鋁膜]2020-08-30 18:16:09

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真空鍍鋁膜一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。方法：在基材表面蒸鍍鋁的方法有直接蒸鍍法和轉(zhuǎn)移法兩種。（1）直接蒸鍍法。是...

[鍍鋁膜]2020-08-30 10:13:15

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塑料薄膜的鍍膜工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍?cè)诨谋∧け砻?。BOPET、BOPA薄膜基材鍍鋁前不需進(jìn)行表面處理，可直接進(jìn)行蒸鍍。而BOPP、CPP、PE等非...

[鍍鋁膜]2020-08-30 05:13:48

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真空鍍鋁膜需要用于水煮殺菌條件時(shí)仍然不能滿足要求。為了滿足上述要求，通過在基材薄膜表面涂布一層丙烯酸類的化學(xué)涂層，該涂層不僅對(duì)鍍鋁層有優(yōu)異的粘附性能，同時(shí)可以滿...

[鍍鋁膜]2020-08-30 03:13:02

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真空鍍鋁膜的聚酯類(如PET、PBT、PC)屬于極性高分子，浙江真空鍍銅膜工廠，其表面自由能較高，表面濕張力在40dyn/cm(1dyn/cm=1mN/m)以上...

[鍍鋁膜]2020-08-30 03:13:02

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真空鍍鋁膜的目測(cè)估計(jì)法。如用兩層真空鍍鋁膜疊在一起對(duì)著日光燈或?qū)χ炜湛?，以看不見光線為準(zhǔn)，鍍層厚度應(yīng)達(dá)400?以上，打蠟鍍膜工藝，但這種方法很容易受眼睛視覺的...

[鍍鋁膜]2020-08-30 01:20:44

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真空鍍鋁膜反應(yīng)磁控濺射沉積過程中基板升溫較小，而且制膜過程中通常也不要求對(duì)基板進(jìn)行高溫加熱，因此對(duì)基板材料的限制較少。反應(yīng)磁控濺射適于制備大面積均勻薄膜，并能實(shí)...

[鍍鋁膜]2020-08-29 18:18:03

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鍍膜的泵用于進(jìn)片室可以免油蒸汽對(duì)基片的污染, 并可防止活性氣體周期性的混入鍍膜室內(nèi)。在濺射鍍膜中盡量抑zhi油蒸汽的污染的必要性應(yīng)是無可爭(zhēng)議的。為了保證每個(gè)濺射...

[鍍鋁膜]2020-08-29 17:17:03

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