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產(chǎn)品關(guān)鍵詞:寧波真空鍍膜廠家
***更新:2020-06-10 01:12:25
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詳細(xì)說明
對于真空鍍膜而言,我們可以簡單的理解為是在真空環(huán)境下,利用蒸鍍、濺射及凝結(jié)的方法,在金屬,寧波真空鍍膜廠家、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等材料上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。真空鍍膜屬于干式鍍膜,在光學(xué)、電子學(xué)、理論儀器、機(jī)械和表面處理技術(shù)上有著***的應(yīng)用。以真空鍍膜的離子鍍膜為例,寧波真空鍍膜廠家,它是在真空蒸鍍、濺射鍍膜的基礎(chǔ)上發(fā)展而來的,所以它具有真空蒸鍍、濺射鍍膜兩種鍍膜方式的優(yōu)點(diǎn),寧波真空鍍膜廠家,離子鍍膜是在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化,并在離子轟擊下,將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基片表面。
濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜是兩種不同的鍍膜方式,蒸發(fā)鍍膜成分均勻性不能很好的保證(控制),雖然真空鍍膜機(jī)和特定的因素是可以進(jìn)行干預(yù)控制的,但是這個(gè)控制是非常有限的,因此對于非單組分涂料,蒸發(fā)鍍膜成分均勻性效果并不好。濺射鍍膜我們可以理解為電子(其他能量)轟擊目標(biāo)而使用的,使得表面成分的自由基或離子形式濺射,并沉積在襯底表面的成膜過程中并形成薄膜。濺射鍍膜又能繼續(xù)細(xì)分其他類型,目前使用的是激光濺射、脈沖濺射居多。
目前濺射鍍膜技術(shù)能分為二級濺射,偏壓濺射,三級或四級濺射,射頻濺射,磁控濺射,對向靶濺射,反應(yīng)濺射和離子束濺射這幾類。濺射鍍膜技術(shù)使用范圍***,常用在制備金屬、合金、半導(dǎo)體、氧化物、絕緣介質(zhì),以及化合物半導(dǎo)體、碳化物、氮化物等材料的鍍膜。從上個(gè)世紀(jì)七十年代發(fā)展興起,到現(xiàn)在逐漸成熟和創(chuàng)新突破,使其在更多的方面得到運(yùn)用。濺射鍍膜的優(yōu)點(diǎn)是比較明顯使用,但是其缺|陷也是比較明顯的,如所需的建設(shè)設(shè)備復(fù)雜且需要高壓裝置配合;鍍膜的成型率低和需要?dú)怏w輝光放電下進(jìn)行等等。
文章來源地址: http://www.cdcfah.com/cp/205570.html
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