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光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上。然后使用化學方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、激光刻蝕等工序。光刻機的制造和維護需要高度的光學和電子工業(yè)基礎(chǔ),因此,世界上只有少數(shù)廠家掌握,上海自動光刻機廠家推薦。光刻機又名掩模對準曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的中心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上,上海自動光刻機廠家推薦。光刻機的種類可分為:接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光,上海自動光刻機廠家推薦。光刻機:由于質(zhì)量較重,使得曝光深度有限,一般不超過0.5um。上海自動光刻機廠家推薦
光刻機(MaskAligner)又名:掩模對準曝光機,曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的中心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機的品牌眾多,根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類:較高的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種,分辨率通常七納米至幾微米之間,較高光刻機號稱世界上較精密的儀器,世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。較高光刻機堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花,其制造難度之大,全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國),日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的較高光刻機)和日本Canon三大品牌為主。位于我國的SMEE已研制出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機,形成產(chǎn)品系列初步實現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機,分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRONXQ4006、以及中國品牌。上海自動光刻機廠家推薦光刻機性能指標:光光源波長為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,光源有汞燈,準分子激光器等。
光刻機的工作原理:1、清洗玻璃并烘干,首先準備一塊玻璃,玻璃的大小可以根據(jù)需要裁減,然后將玻璃清洗干凈烘干,備用。2、在玻璃上涂覆光刻膠,光刻膠有正性和負性之分。3、干燥,采用固化干燥機讓玻璃揮發(fā)液體成分,干燥的目的是為了玻璃進一步加工的需要。4、曝光,曝光的方式有很多種,比如激光直寫、通過掩模板同時曝光等都可以。5、去膠,去膠的方法也很多,比如放在刻蝕劑中,用正性膠的話,被光照到的地方就會被溶解,沒有光照到的地方光刻膠保留下來,到這里就已經(jīng)在光刻膠上刻蝕出了所需圖形。6、清洗,去膠結(jié)束后,對玻璃進行清洗。7、轉(zhuǎn)移,轉(zhuǎn)移的方法也有很多,可以采取離子束轟擊,光刻膠和玻璃同時被轟擊等等,光刻膠被轟擊完后,暴露出來的玻璃也被轟擊,就把光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到玻璃上。這樣就完成了。
光刻機一般來說是用激光進行的,也就是在玻璃上刻圖形,大致步驟為:1.清洗玻璃,2.干燥,3.在玻璃上涂覆光致抗蝕劑,4.固化,5.曝光,6.去膠,7.清洗,8.轉(zhuǎn)移。經(jīng)過一次光刻的芯片可以繼續(xù)涂膠、曝光,越復雜的芯片,線路圖的層數(shù)越多,也需要更精密的曝光控制過程。光刻機的主要性能指標有:1.支持基片的尺寸范圍,2.分辨率;分辨率是對光刻工藝加工可以達到的較細線條精度的一種描述方式,3.對準精度,4.曝光方式:曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。5.光源波長:曝光光源波長為紫外、深紫外和極紫外區(qū)域,光源有汞燈,準分子激光器等。6.光強均勻性,7.生產(chǎn)效率。光刻機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種:A、手動:指的是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準,對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。B、半自動:指的是對準可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位。C、自動:指的是通過程序控制,自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。光刻機的曝光:曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當,設備簡單。
光刻機,其實就是一種將圖紙上的芯片電路設計通過類似照片沖印的技術(shù)印制到硅片上的機器。簡單來說,就是在硅片上覆蓋一層具有高度光敏感性的光刻膠,再用紫外光透過掩模照射硅片,被光線照射到的光刻膠會發(fā)生化學反應。此后用特定顯影液去洗硅片上的光刻膠,就完成了把電路圖從掩模轉(zhuǎn)移到硅片上的工作,這是制造芯片中的重要一步。這個技術(shù)到底有多難呢,對于不先進的光刻機來說,通過大力研發(fā)這當然并不難實現(xiàn),但是對于現(xiàn)在高度集成的芯片來說,5nm甚至5nm以下的芯片制造工藝,就需要更加精細的光刻機了。光刻機性能指標:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產(chǎn)效率等。上海自動光刻機廠家推薦
光刻機性能指標:對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。上海自動光刻機廠家推薦
國產(chǎn)光刻機水平進展和前景分析:光刻機是諸多現(xiàn)代技術(shù)高度集成的產(chǎn)物,這些技術(shù)是:物理、光學、化學、材料科學、精密機械、精密控制和工程學等等。在過去的二十幾年中,光刻機作為器件制造業(yè)的重要工具,經(jīng)歷了許多次**。這些變革是伴隨著微處理器和DllAM特征尺寸的不斷縮減發(fā)生的。由于光刻的分辨率與曝光波長、物鏡光闌孔徑的關(guān)系為:因此光刻機的**主要發(fā)生在這樣幾個方面:大NA非球面鏡光學系統(tǒng)、短波長光源、分辨率增強技術(shù)(降低Kl因子)和同步掃描工作臺等。20多年前,日本尼康生產(chǎn)的初臺光刻機是NSRl010G型光刻機,曝光波長為436nm,分辨率為l”m,曝光面積為10mm×10mm,其產(chǎn)率對100mm硅片來講是每小時20片。而~F光刻機的分辨率在2003年將達到0,1”m,其產(chǎn)率對300rflin硅片來講是每小時100片。給出了每一代光刻機的光源波長、分辨率、NA和K1的演變過程。上海自動光刻機廠家推薦
上海百雅信息科技發(fā)展有限公司總部位于楊園南路116號337室,是一家許可項目:各類工程建設活動。(依法須經(jīng)批準的項目,經(jīng)相 關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動,具體經(jīng)營項目以相關(guān)部門批 準文件或許可證件為準) 一般項目:計算機、網(wǎng)絡、船舶領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)開發(fā)、技術(shù)轉(zhuǎn) 讓、技術(shù)服務、技術(shù)咨詢,工業(yè)控制計算機及系統(tǒng)銷售,日用 百貨、建筑材料、服裝、五金交電、鞋帽的銷售,貨物進出 口,技術(shù)進出口,工業(yè)自動控制系統(tǒng)裝置銷售,機械設備研 發(fā),軟件開發(fā)。(除依法須經(jīng)批準的項目外,憑營業(yè)執(zhí)照依法 自主開展經(jīng)營活動) 的公司。上海百雅科技深耕行業(yè)多年,始終以客戶的需求為向?qū)?,為客戶提?**的PLC,伺服驅(qū)動器,伺服馬達,變頻器。上海百雅科技不斷開拓創(chuàng)新,追求出色,以技術(shù)為先導,以產(chǎn)品為平臺,以應用為重點,以服務為保證,不斷為客戶創(chuàng)造更高價值,提供更優(yōu)服務。上海百雅科技創(chuàng)始人尹強,始終關(guān)注客戶,創(chuàng)新科技,竭誠為客戶提供良好的服務。
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