需求數(shù)量:0
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所在地:廣東省
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產(chǎn)品關(guān)鍵詞:湖南光刻價格,光刻
***更新:2020-11-28 04:25:09
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在平板顯示行業(yè);主要使用的光刻膠有彩色及黑色光刻膠、LCD觸摸屏用光刻膠、TFT-LCD正性光刻膠等。在光刻和蝕刻生產(chǎn)環(huán)節(jié)中,光刻膠涂覆于晶體薄膜表面,經(jīng)曝光、顯影和蝕刻等工序?qū)⒐庹郑ㄑ谀ぐ妫┥系膱D形轉(zhuǎn)移到薄膜上,形成與掩膜版對應(yīng)的幾何圖形,湖南光刻價格。在PCB行業(yè);主要使用的光刻膠有干膜光刻膠,湖南光刻價格、濕膜光刻膠,湖南光刻價格、感光阻焊油墨等。干膜是用特殊的薄膜貼在處理后的敷銅板上,進行曝光顯影;濕膜和光成像阻焊油墨則是涂布在敷銅板上,待其干燥后進行曝光顯影。由于EUV技術(shù)具有如此短的波長,所有光刻中不需要再使用光學鄰近效應(yīng)校正(OPC)技術(shù)。湖南光刻價格
光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%,并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%-50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%,市場巨大。因此光刻膠是半導體集成電路制造的中心材料。按顯示效果分類;光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠。負性光刻膠顯影時形成的圖形與光罩(掩膜版)相反;正性光刻膠形成的圖形與掩膜版相同。兩者的生產(chǎn)工藝流程基本一致,區(qū)別在于主要原材料不同。按照化學結(jié)構(gòu)分類;光刻膠可以分為光聚合型,光分解型,光交聯(lián)型和化學放大型。湖南光刻價格電子束曝光技術(shù)是推動微電子技術(shù)和微細加工技術(shù)進一步發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)。
光刻涂底方法:氣相成底膜的熱板涂底。HMDS蒸氣淀積,200~250C,30秒鐘;優(yōu)點:涂底均勻、避免顆粒污染;旋轉(zhuǎn)涂底。缺點:顆粒污染、涂底不均勻、HMDS用量大。目的:使表面具有疏水性,增強基底表面與光刻膠的黏附性旋轉(zhuǎn)涂膠方法:a、靜態(tài)涂膠(Static)。硅片靜止時,滴膠、加速旋轉(zhuǎn)、甩膠、揮發(fā)溶劑(原光刻膠的溶劑約占65~85%,旋涂后約占10~20%);b、動態(tài)(Dynamic)。低速旋轉(zhuǎn)(500rpm_rotation per minute)、滴膠、加速旋轉(zhuǎn)(3000rpm)、甩膠、揮發(fā)溶劑。決定光刻膠涂膠厚度的關(guān)鍵參數(shù):光刻膠的黏度(Viscosity),黏度越低,光刻膠的厚度越??;
近年來,國產(chǎn)面板得到了突破性發(fā)展,但是很多上游原材料配套不足,供應(yīng)鏈都在海外,導致成本高企,所以這也給了國產(chǎn)光刻膠一個機會。再加上國內(nèi)晶圓代工近兩年取得較大的進步,對國產(chǎn)光刻膠需求也在明顯上升,這些都為國產(chǎn)光刻膠發(fā)展創(chuàng)造了良好的條件。另一個層面來講,國產(chǎn)光刻膠需要**自主。雖然光刻膠的市場不大,但是有些產(chǎn)業(yè)的存在不**是能否賺錢的問題,而是出于戰(zhàn)略需求?;仡櫲ツ耆毡緮喙╉n國光刻膠事件,強大如韓國,依然被一個小小的光刻膠所卡死。所以應(yīng)該有國產(chǎn)光刻膠的存在,保證自身的戰(zhàn)略安全,這也是較近發(fā)改委為何會發(fā)文,要加快光刻膠、大尺寸硅片等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破的原因所在。在更低的22nm節(jié)點甚至16nm節(jié)點技術(shù)中,浸沒式光刻技術(shù)也具有相當大的優(yōu)勢。
現(xiàn)在全球范圍內(nèi),能夠生產(chǎn)光刻機的企業(yè)也是鳳毛麟角,只有荷蘭某公司和日本的,還有上海某某公司能夠生產(chǎn)出現(xiàn)。芯片的研發(fā)以及制造現(xiàn)在已經(jīng)成為一條完整的產(chǎn)業(yè)鏈,而對于芯片的研發(fā),現(xiàn)在有能夠做到**研發(fā)的其實并不是很多。但是比較**的芯片研發(fā)廠商這些企業(yè)**是具有研發(fā)芯片的能力,要想制造出來芯片,還需要使用到一種無法繞開的設(shè)備:光刻機。但是由于過程光刻機領(lǐng)域的發(fā)展落后于西方,某公司能夠量產(chǎn)的制程**只有90nm,而荷蘭公司所能夠生產(chǎn)的光刻機現(xiàn)在已經(jīng)能夠達到7nm甚至是5nm的制程,所以想要將芯片領(lǐng)域牢牢的掌握在自己手機,就必須要發(fā)展光刻機設(shè)備。影響光刻膠均勻性的參數(shù):旋轉(zhuǎn)加速度,加速越快越均勻;ITO鍍膜真空鍍膜廠商
是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。湖南光刻價格
光刻噴嘴噴霧模式和硅片旋轉(zhuǎn)速度是實現(xiàn)硅片間溶解率和均勻性的可重復(fù)性的關(guān)鍵調(diào)節(jié)參數(shù)。水坑(旋覆浸沒)式顯影(Puddle Development)。噴覆足夠(不能太多,較小化背面濕度)的顯影液到硅片表面,并形成水坑形狀(顯影液的流動保持較低,以減少邊緣顯影速率的變化)。硅片固定或慢慢旋轉(zhuǎn)。一般采用多次旋覆顯影液:首先次涂覆、保持10~30秒、去除;第二次涂覆、保持、去除。然后用去離子水沖洗(去除硅片兩面的所有化學品)并旋轉(zhuǎn)甩干。優(yōu)點:顯影液用量少;硅片顯影均勻;較小化了溫度梯度。湖南光刻價格
廣東省科學院半導體研究所辦公設(shè)施齊全,辦公環(huán)境優(yōu)越,為員工打造良好的辦公環(huán)境。專業(yè)的團隊大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗,熟悉行業(yè)專業(yè)知識技能,致力于發(fā)展芯辰實驗室,微納加工的品牌。我公司擁有強大的技術(shù)實力,多年來一直專注于面向半導體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域,致力于打造***的公益性、開放性、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備,建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,加工尺寸覆蓋2-6英寸(部分8英寸),同時形成了一支與硬件有機結(jié)合的專業(yè)人才隊伍。平臺當前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供支持。的發(fā)展和創(chuàng)新,打造高指標產(chǎn)品和服務(wù)。廣東省半導體所始終以質(zhì)量為發(fā)展,把顧客的滿意作為公司發(fā)展的動力,致力于為顧客帶來***的微納加工技術(shù)服務(wù),真空鍍膜技術(shù)服務(wù),紫外光刻技術(shù)服務(wù),材料刻蝕技術(shù)服務(wù)。
文章來源地址: http://www.cdcfah.com/cp/2175317.html
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