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產(chǎn)品關(guān)鍵詞:深圳光電器件真空鍍膜加工,真空鍍膜
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PECVD反應過程中,反應氣體從進氣口進入爐腔,逐漸擴散至襯底表面,在射頻源激發(fā)的電場作用下,反應氣體分解成電子、離子和活性基團等。分解物發(fā)生化學反應,生成形成膜的初始成分和副反應物,這些生成物以化學鍵的形式吸附到樣品表面,生成固態(tài)膜的晶核,晶核逐漸生長成島狀物,島狀物繼續(xù)生長成連續(xù)的薄膜。在薄膜生長過程中,各種副產(chǎn)物從膜的表面逐漸脫離,在真空泵的作用下從出口排出?;瘜W氣相沉積法(CVD)是一種利用化學反應的方式,將反應氣體生成固態(tài)的產(chǎn)物,并沉積在基片表面的薄膜沉積技術(shù)。主要有常壓CVD、LPCVD(低壓氣相沉積法),深圳光電器件真空鍍膜加工、PECVD(等離子體增強氣相沉積法)等方法,深圳光電器件真空鍍膜加工。蒸發(fā)高熔點的材料可以用薄片來蒸鍍,深圳光電器件真空鍍膜加工,將1mm材料薄片架空于碳坩堝上沿,薄片只能通過坩堝邊沿來導熱。深圳光電器件真空鍍膜加工
PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應氣體分子,就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于活動的狀態(tài)容易發(fā)生反應,以在襯底在300-350℃就可以得到良好的氧化硅或者氮化硅薄膜,可以在器件當中作為鈍化絕緣層,來提高器件的可靠性。等離子體化學氣相沉積法,利用了等離子體的活性來促進反應,使化學反應能在較低的溫度下進行。優(yōu)點是:反應溫度降低,沉積速率較快,成膜質(zhì)量好,不容易破裂。缺點是:設(shè)備投資大、對氣管有特殊要求。浙江真空鍍膜加工降低PVD制備薄膜的應力,可以提高襯底溫度。
磁控濺射方向性要優(yōu)于電子束蒸發(fā),但薄膜質(zhì)量,表面粗糙度等方面不如電子束蒸發(fā)。但磁控濺射可用于多種材料,適用性普遍,電子束蒸發(fā)則只能用于金屬材料蒸鍍,且高熔點金屬,如W,Mo等的蒸鍍較為困難。所以磁控濺射常用于新型氧化物,陶瓷材料的鍍膜,電子束則用于對薄膜質(zhì)量較高的金屬材料。LPCVD工藝在襯底表面淀積一層均勻的介質(zhì)薄膜,在微納加工當中用于結(jié)構(gòu)層材料、xi牲層、絕緣層、掩模材料,LPCVD工藝淀積的材料有多晶硅、氮化硅、磷硅玻璃。不同的材料淀積采用不同的氣體。
PECVD在低溫范圍內(nèi)(200-350℃),沉積速率會隨著基片溫度的升高而略微下降,但不是太明顯。PECVD生長氧化硅薄膜是一個比較復雜的過程,薄膜的沉積速率主要受到反應氣體比例、RF功率、反應室壓力、基片生長溫度等。在一定范圍內(nèi),提高硅烷與笑氣的比例,可提供氧化硅的沉積速率。在RF功率較低的時候,提升RF功率可提升薄膜的沉積速率,當RF增加到一定值后,沉積速率隨RF增大而減少,然后趨于飽和。在一定的氣體總量條件下,沉積速率隨腔體壓力增大而增大。等離子體化學氣相沉積法,利用了等離子體的活性來促進反應,使化學反應能在較低的溫度下進行。
在等離子增強化學氣相沉積(PECVD)工藝中,由等離子體輔助化學反應過程。在等離子體輔助下,200 到500°C的工藝溫度足以實現(xiàn)成品膜層的制備,因此該技術(shù)降低了基材的溫度負荷。等離子可在接近基片的周圍被激發(fā)(近程等離子法)。而對于半導體硅片等敏感型基材,輻射和離子轟擊可能損壞基材。另一方面,在遠程等離子法中,等離子體與基材間設(shè)有空間隔斷。隔斷不僅能夠保護基材,也允許激發(fā)混合工藝氣體的特定成分。然而,為保證化學反應在被活動的粒子真正抵達基材表面時才開始進行,需精心設(shè)計工藝過程?;瘜W氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體。浙江真空鍍膜加工
真空鍍膜流程:前處理及化學清洗→襯底真空中烘烤加熱→等離子體清洗→金屬離子轟擊→鍍金屬過渡層→鍍膜。深圳光電器件真空鍍膜加工
等離子體化學氣相沉積法,利用了等離子體的活性來促進反應,使化學反應能在較低的溫度下進行。優(yōu)點是:反應溫度降低,沉積速率較快,成膜質(zhì)量好,不容易破裂。缺點是:設(shè)備投資大、對氣管有特殊要求。PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應氣體分子,就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于活動的狀態(tài)容易發(fā)生反應,以在襯底在300-350℃就可以得到良好的氧化硅或者氮化硅薄膜,可以在器件當中作為鈍化絕緣層,來提高器件的可靠性。深圳光電器件真空鍍膜加工
廣東省科學院半導體研究所致力于電子元器件,是一家服務型公司。公司自成立以來,以質(zhì)量為發(fā)展,讓匠心彌散在每個細節(jié),公司旗下微納加工技術(shù)服務,真空鍍膜技術(shù)服務,紫外光刻技術(shù)服務,材料刻蝕技術(shù)服務深受客戶的喜愛。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力,努力學習行業(yè)知識,遵守行業(yè)規(guī)范,植根于電子元器件行業(yè)的發(fā)展。廣東省半導體所憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務、眾多的成功案例積累起來的聲譽和口碑,讓企業(yè)發(fā)展再上新高。
文章來源地址: http://www.cdcfah.com/cp/3204748.html
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