需求數(shù)量:0
價格要求:面議
所在地:廣東省
包裝要求:
產(chǎn)品關(guān)鍵詞:山東鍍膜微納加工,光刻
***更新:2020-11-29 01:21:07
瀏覽次數(shù):0次
聯(lián)系我們
當前位置:首頁?產(chǎn)品供應(yīng)?電子元器件?電子材料、零部件、結(jié)構(gòu)件?半導(dǎo)體材料?山東鍍膜微納加工 廣東省科學院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
需求數(shù)量:0
價格要求:面議
所在地:廣東省
包裝要求:
產(chǎn)品關(guān)鍵詞:山東鍍膜微納加工,光刻
***更新:2020-11-29 01:21:07
瀏覽次數(shù):0次
聯(lián)系我們聯(lián)系人:曾昭燴
郵箱: 512480780@qq.com
電話: 15018420573
傳真: 020_
網(wǎng)址: http://www.gdssli.com
手機: 020-61086422
地址: 長興路363號
[當前離線] [加為商友] [發(fā)送信件]
詳細說明
一般而言,KrF(248nm)光刻膠使用聚對羥基苯乙烯及其衍生物作為成膜樹脂,使用磺酸碘鎓鹽和硫鎓鹽作為光致酸劑;而ArF(193nm)光刻膠則多使用聚甲基丙烯酸酯衍生物,山東鍍膜微納加工,環(huán)烯烴-馬來酸酐共聚物,環(huán)形聚合物等作為成膜樹脂;由于化學結(jié)構(gòu)上的原因,Arf(193nm)光刻膠需要比KrF(248nm)光刻膠更加敏感的光致酸劑。雖然在2007年之后,一些波長更短的準分子光刻光源技術(shù)陸續(xù)出現(xiàn),但是這些波段的輻射都很容易被光刻鏡頭等光學材料吸收,使這些材料受熱產(chǎn)生膨脹而無法正常工作。少數(shù)可以和這些波段的輻射正常工作的光學材料,比如氟化鈣(螢石)等,成本長期居高不下。再加上浸沒光刻和多重曝光等新技術(shù)的出現(xiàn),山東鍍膜微納加工,193nm波長ArF光刻系統(tǒng)突破了此前 65nm 分辨率的瓶頸,所以在45nm 到10nm之間的半導(dǎo)體制程工藝中,山東鍍膜微納加工,ArF光刻技術(shù)仍然得到了較普遍的應(yīng)用。邊緣的光刻膠一般涂布不均勻,不能得到很好的圖形,而且容易發(fā)生剝離而影響其它部分的圖形。山東鍍膜微納加工
光刻膠所屬的微電子化學品是電子行業(yè)與化工行業(yè)交叉的領(lǐng)域,是典型的技術(shù)密集行業(yè)。從事微電子化學品業(yè)務(wù)需要具備與電子產(chǎn)業(yè)前沿發(fā)展相匹配的關(guān)鍵生產(chǎn)技術(shù),如混配技術(shù)、分離技術(shù)、純化技術(shù)以及與生產(chǎn)過程相配套的分析檢驗技術(shù)、環(huán)境處理與監(jiān)測技術(shù)等。同時,下游電子產(chǎn)業(yè)多樣化的使用場景要求微電子化學品生產(chǎn)企業(yè)有較強的配套能力,以及時研發(fā)和改進產(chǎn)品工藝來滿足客戶的個性化需求。光刻膠的生產(chǎn)工藝主要過程是將感光材料、樹脂、溶劑等主要原料在恒溫恒濕 1000 級的黃光區(qū)潔凈房進行混合,在氮氣氣體保護下充分攪拌,使其充分混合形成均相液體,經(jīng)過多次過濾,并通過中間過程控制和檢驗,使其達到工藝技術(shù)和質(zhì)量要求,較后做產(chǎn)品檢驗,合格后在氮氣氣體保護下包裝、打標、入庫。吉林材料刻蝕服務(wù)ArF浸沒式兩次曝光技術(shù)已被業(yè)界認為是32nm節(jié)點較具競爭力的技術(shù);
顯影液:正性光刻膠的顯影液。正膠的顯影液位堿性水溶液。KOH和NaOH因為會帶來可動離子污染(MIC,Movable Ion Contamination),所以在IC制造中一般不用。較普通的正膠顯影液是四甲基氫氧化銨(TMAH)(標準當量濃度為0.26,溫度15~25C)。在I線光刻膠曝光中會生成羧酸,TMAH顯影液中的堿與酸中和使曝光的光刻膠溶解于顯影液,而未曝光的光刻膠沒有影響;在化學放大光刻膠(CAR,Chemical Amplified Resist)中包含的酚醛樹脂以PHS形式存在。CAR中的PAG產(chǎn)生的酸會去除PHS中的保護基團(t-BOC),從而使PHS快速溶解于TMAH顯影液中。
由于**帶動全球在線辦公醫(yī)療等相關(guān)領(lǐng)域的拉升,持續(xù)推升了電源管理芯片、CIS影像傳感芯片、面板驅(qū)動芯片等需求熱絡(luò)。再加上12寸邏輯IC、存儲器相關(guān)需求穩(wěn)定,晶圓代工需求旺盛,各大企業(yè)相繼出現(xiàn)了產(chǎn)能滿載的現(xiàn)象,甚至晶圓代工的交期被拉長。國內(nèi)光刻膠企業(yè)較近動作頻出的原因,一方面是市場需求上升,另一方面也是自身需求所致。從日本的光刻膠發(fā)家史不難發(fā)現(xiàn),日本的光刻膠是伴隨著本國的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)一起崛起的,所以光刻膠必須要有配套產(chǎn)業(yè)的出現(xiàn)才能一步步做起來。大體在10-6nm量級上,因而電子束光刻不受衍射極限的影響。
一般下游企業(yè)都有自己穩(wěn)固的合作伙伴,對于他們來說,如果更換供應(yīng)商,又會是一個相當長的驗證周期,費時費力。綜上所述,光刻膠產(chǎn)業(yè)的特殊屬性,導(dǎo)致目前日本在這方面稱霸全球,而鮮有挑戰(zhàn)者。事實上,日本的光刻膠并非一出場就是領(lǐng)頭,而是從青銅一步步爬上去的。光刻膠的雛形較早出現(xiàn)在200年前的法國,成長于美國,卻在日本的手上得到了發(fā)揚,這其中有日本自身的努力,也和時代環(huán)境密不可分。由于當時80年代半導(dǎo)體工藝還主要處于微米級別,這種工藝用i線就足夠,KrF光刻膠雖然先進,但是價格昂貴,并未得到普遍應(yīng)用。電子束光刻一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的曝光系統(tǒng),另一類是直接在基片上直寫納米級圖形的光刻系統(tǒng)。山東鍍膜微納加工
為解決曝光效率問題,通常采用電子束光刻與光學光刻進行匹配與混合光刻的辦法。山東鍍膜微納加工
以研究光譜而聞名的近代德國科學家約瑟夫·弗勞恩霍夫?qū)⑦@兩種波長的光譜分別命名為G線和I線。這也是 g-line光刻和 i-line光刻技術(shù)命名的由來。g-line與i-line光刻膠均使用線性酚醛成分作為樹脂主體,重氮萘醌成分(DQN 體系)作為感光劑。未經(jīng)曝光的DQN成分作為克制劑,可以十倍或者更大的倍數(shù)降低光刻膠在顯影液中的溶解速度。曝光后,重氮萘醌(DQN)基團轉(zhuǎn)變?yōu)橄┩?,與水接觸時,進一步轉(zhuǎn)變?yōu)檐崃u酸,從而得以在曝光區(qū)被稀堿水顯影時除去。由此,曝光過的光刻膠會溶解于顯影液而被去除,而未曝光的光刻膠部分則得以保留。山東鍍膜微納加工
廣東省科學院半導(dǎo)體研究所屬于電子元器件的高新企業(yè),技術(shù)力量雄厚。是一家****企業(yè),隨著市場的發(fā)展和生產(chǎn)的需求,與多家企業(yè)合作研究,在原有產(chǎn)品的基礎(chǔ)上經(jīng)過不斷改進,追求新型,在強化內(nèi)部管理,完善結(jié)構(gòu)調(diào)整的同時,良好的質(zhì)量、合理的價格、完善的服務(wù),在業(yè)界受到寬泛好評。公司業(yè)務(wù)涵蓋微納加工技術(shù)服務(wù),真空鍍膜技術(shù)服務(wù),紫外光刻技術(shù)服務(wù),材料刻蝕技術(shù)服務(wù),價格合理,品質(zhì)有保證,深受廣大客戶的歡迎。廣東省半導(dǎo)體所將以真誠的服務(wù)、創(chuàng)新的理念、***的產(chǎn)品,為彼此贏得全新的未來!
文章來源地址: http://www.cdcfah.com/cp/2184853.html
本企業(yè)其它產(chǎn)品 更多>>
同類產(chǎn)品推薦 更多>>