需求數(shù)量:0
價格要求:面議
所在地:廣東省
包裝要求:
產(chǎn)品關(guān)鍵詞:廣東光刻外協(xié),光刻
***更新:2021-01-08 05:19:06
瀏覽次數(shù):0次
聯(lián)系我們
當(dāng)前位置:首頁?產(chǎn)品供應(yīng)?電子元器件?電子材料、零部件、結(jié)構(gòu)件?半導(dǎo)體材料?廣東光刻外協(xié) 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
需求數(shù)量:0
價格要求:面議
所在地:廣東省
包裝要求:
產(chǎn)品關(guān)鍵詞:廣東光刻外協(xié),光刻
***更新:2021-01-08 05:19:06
瀏覽次數(shù):0次
聯(lián)系我們聯(lián)系人:曾昭燴
郵箱: 512480780@qq.com
電話: 15018420573
傳真: 020_
網(wǎng)址: http://www.gdssli.com
手機(jī): 020-61086422
地址: 長興路363號
[當(dāng)前離線] [加為商友] [發(fā)送信件]
詳細(xì)說明
光刻膠旋轉(zhuǎn)速度,速度越快,厚度越薄;影響光刻膠均勻性的參數(shù):旋轉(zhuǎn)加速度,加速越快越均勻;與旋轉(zhuǎn)加速的時間點有關(guān)。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長有關(guān)(因為不同級別的曝光波長對應(yīng)不同的光刻膠種類和分辨率):I-line較厚,約0.7~3μm;KrF的厚度約0.4~0.9μm;ArF的厚度約0.2~0.5μm。軟烘方法:真空熱板,85~120C,30~60秒;目的:除去溶劑(4~7%);增強(qiáng)黏附性;釋放光刻膠膜內(nèi)的應(yīng)力;防止光刻膠玷污設(shè)備;邊緣光刻膠的去除:光刻膠涂覆后,在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底,廣東光刻外協(xié)、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光,廣東光刻外協(xié)、后烘,廣東光刻外協(xié)、顯影、硬烘等工序。廣東光刻外協(xié)
根據(jù)曝光方式的不同,光刻機(jī)主要分為接觸式,接近式以及投影式三種。接觸式光刻機(jī),曝光時,光刻版壓在涂有光刻膠的襯底上,優(yōu)點是設(shè)備簡單,分辨率高,沒有衍射效應(yīng),缺點是光刻版與涂有光刻膠的晶圓片直接接觸,每次接觸都會在晶圓片和光刻版上產(chǎn)生缺陷,降低光刻版使用壽命,成品率低。接近式光刻機(jī),光刻版與光刻膠有一個很小的縫隙,因為光刻版與襯底沒有接觸,缺陷減少,優(yōu)點是避免晶圓片與光刻版直接接觸,缺陷少,缺點是分辨率低,存在衍射效應(yīng)。投影式曝光,一般光學(xué)系統(tǒng)將掩模版上的圖像縮小4x或5x倍,聚焦并與硅片上已有的圖形對準(zhǔn)后曝光,每次曝光一小部分,曝完一個圖形后,硅片移動到下一個曝光位置繼續(xù)對準(zhǔn)曝光,這種曝光方式分辨率比較高,但不產(chǎn)生缺陷。廣東光刻外協(xié)光刻技術(shù)是指在光照作用下,借助光致抗蝕劑(又名光刻膠)將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的技術(shù)。
正膠光刻的基本流程:襯底清洗、前烘以及預(yù)處理,涂膠、軟烘、曝光、顯影、圖形檢查,后烘。負(fù)膠光刻的基本流程:襯底清洗、前烘以及預(yù)處理、涂膠、軟烘、曝光、后烘、顯影、圖形檢查。正膠曝光前,光刻膠不溶于顯影液,曝光后,曝光區(qū)溶于顯影液,圖形與掩膜版圖形相同;而負(fù)性光刻膠,曝光前光刻膠可溶于顯影液,曝光后,被曝光區(qū)不溶于顯影液,圖形與掩膜版圖形相同。光刻可能會出現(xiàn)顯影不干凈的異常,主要原因可能是顯影時間不足、顯影溶液使用周期過長,溶液溶解膠量較多、曝光時間不足,主要的解決方法有增加顯影時間、更換新的顯影液,增強(qiáng)溶液溶解能力、增加曝光時間。
一般微電子化學(xué)品具有一定的腐蝕性,對生產(chǎn)設(shè)備有較高的要求,且生產(chǎn)環(huán)境需要進(jìn)行無塵或微塵處理。制備較優(yōu)微電子化學(xué)品還需要全封閉、自動化的工藝流程,以避免污染,提高質(zhì)量。因此,光刻膠等微電子化學(xué)品生產(chǎn)在安全生產(chǎn)、環(huán)保設(shè)備、生產(chǎn)工藝系統(tǒng)、過程控制體系以及研發(fā)投資等方面要求較高。如果沒有強(qiáng)大的資金實力,企業(yè)就難以在設(shè)備、研發(fā)和技術(shù)服務(wù)上取得競爭優(yōu)勢,以提升可持續(xù)發(fā)展能力。因此,光刻膠這樣的微電子化學(xué)品行業(yè)具備較高的資金壁壘。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所。光刻膠涂覆后,在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。
當(dāng)光刻膠曝光后,曝光區(qū)域的光致酸劑(PAG)將會產(chǎn)生一種酸。這種酸在后熱烘培工序期間作為催化劑,將會移除樹脂的保護(hù)基團(tuán)從而使得樹脂變得易于溶解?;瘜W(xué)放大光刻膠曝光速遞是DQN光刻膠的10倍,對深紫外光源具有良好的光學(xué)敏感性,同時具有高對比度,對高分辨率等優(yōu)點。按照曝光波長分類;光刻膠可分為紫外光刻膠(300~450nm)、深紫外光刻膠(160~280nm)、極紫外光刻膠(EUV,13.5nm)、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。不同曝光波長的光刻膠,其適用的光刻極限分辨率不同。接觸式曝光的曝光精度大概只有1微米左右,能夠滿足大部分的單立器件的使用。廣東光刻外協(xié)
光刻其實是由多步工序所組成的。清洗:清洗襯底表面的有機(jī)物。旋涂:將光刻膠旋涂在襯底表面。廣東光刻外協(xié)
電子元器件行業(yè)位于產(chǎn)業(yè)鏈的中游,介于電子整機(jī)行業(yè)和電子原材料行業(yè)之間,其發(fā)展的快慢,所達(dá)到的技術(shù)水平和生產(chǎn)規(guī)模,不*直接影響著整個電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,而且對發(fā)展信息技術(shù),改造傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè),提高現(xiàn)代化裝備水平,促進(jìn)科技進(jìn)步都具有重要意義。在市場競爭力、市場影響力、企業(yè)管理能力以及企業(yè)經(jīng)營規(guī)模實力等方面,繼續(xù)做大做強(qiáng),不斷強(qiáng)化公司在國內(nèi)面向半導(dǎo)體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域,致力于打造***的公益性、開放性、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備,建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,加工尺寸覆蓋2-6英寸(部分8英寸),同時形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專業(yè)人才隊伍。平臺當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供支持。授權(quán)分銷行業(yè)的優(yōu)先地位。因為行業(yè)產(chǎn)值的天花板仍很高,在這個領(lǐng)域內(nèi)繼續(xù)整合的空間還很大。眼下,市場缺口較大的,還是LCD領(lǐng)域,由于LCD價格逐漸提高,同時也開始向新的服務(wù)型方向發(fā)展,相應(yīng)的電子元器件產(chǎn)能并沒有及時跟進(jìn)。因此,對于理財者來說,從這一方向入手,有望把握下**業(yè)增長的紅利。目前,我們的生活充斥著各種電子產(chǎn)品,無論是智能設(shè)備還是非智能設(shè)備,都離不開電子元器件的身影。智能化發(fā)展帶來的經(jīng)濟(jì)化效益無疑是**為明顯的,但是在它身后的微納加工技術(shù)服務(wù),真空鍍膜技術(shù)服務(wù),紫外光刻技術(shù)服務(wù),材料刻蝕技術(shù)服務(wù)前景廣闊。廣東光刻外協(xié)
廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊不斷壯大,現(xiàn)有一支專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊,各種專業(yè)設(shè)備齊全。致力于創(chuàng)造***的產(chǎn)品與服務(wù),以誠信、敬業(yè)、進(jìn)取為宗旨,以建芯辰實驗室,微納加工產(chǎn)品為目標(biāo),努力打造成為同行業(yè)中具有影響力的企業(yè)。公司不**提供專業(yè)的面向半導(dǎo)體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域,致力于打造***的公益性、開放性、支撐性樞紐中心。平臺擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備,建立了一條實驗室研發(fā)線和一條中試線,加工尺寸覆蓋2-6英寸(部分8英寸),同時形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專業(yè)人才隊伍。平臺當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),面向國內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開放共享,為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗證以及產(chǎn)品中試提供支持。,同時還建立了完善的售后服務(wù)體系,為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。廣東省半導(dǎo)體所始終以質(zhì)量為發(fā)展,把顧客的滿意作為公司發(fā)展的動力,致力于為顧客帶來***的微納加工技術(shù)服務(wù),真空鍍膜技術(shù)服務(wù),紫外光刻技術(shù)服務(wù),材料刻蝕技術(shù)服務(wù)。
文章來源地址: http://www.cdcfah.com/cp/2753156.html
本企業(yè)其它產(chǎn)品 更多>>
珠海感應(yīng)耦合等離子刻蝕材料刻蝕 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
遼寧氧化硅材料刻蝕 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
云南EB真空鍍膜 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
吉林真空鍍膜代工 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
重慶MEMS光刻 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
磁控濺射真空鍍膜廠商 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
山東光刻服務(wù)價格 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
山東微納加工平臺 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
同類產(chǎn)品推薦 更多>>
上海硅材料刻蝕公司 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
中山功率器件微納加工廠 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
重慶MEMS光刻 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
深圳光電器件真空鍍膜加工 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
黑龍江真空鍍膜微納加工廠 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
河南MEMS材料刻蝕加工 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
深圳氮化硅材料刻蝕價錢 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
山東微納加工平臺 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)