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產(chǎn)品關鍵詞:珠海貴金屬真空鍍膜技術,真空鍍膜
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詳細說明
薄膜應力的起源是薄膜生長過程中的某種結構不完整性(雜質、空位、晶粒邊界、錯位等)、表面能態(tài)的存在、薄膜與基底界面間的晶格錯配等磁控濺射由于其內部電場的存在,還可在襯底端引入一個負偏壓,使濺射速率和材料粒子的方向性增加。所以磁控濺射常用來沉積TSV結構的阻擋層和種子層,通過對相關參數(shù)的調整和引入負偏壓,可以實現(xiàn)高深寬比的薄膜濺射,且深孔內壁薄膜連續(xù)和良好的均勻性。通過PVD制備的薄膜通常存在應力問題,珠海貴金屬真空鍍膜技術,不同材料與襯底間可能存在壓應力或張應力,在多層膜結構中可能同時存在多種形式的應力,珠海貴金屬真空鍍膜技術,珠海貴金屬真空鍍膜技術?;瘜W氣相沉積法是一種利用化學反應的方式,將反應氣體生成固態(tài)的產(chǎn)物,并沉積在基片表面的薄膜沉積技術。珠海貴金屬真空鍍膜技術
在高真空下,電子qiang燈絲加熱后發(fā)射熱電子,被加速陽極加速,獲得很大的動能轟擊到的蒸發(fā)材料上,把動能轉化成熱使蒸發(fā)材料加熱氣化,而實現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。電子束蒸發(fā)源由發(fā)射電子的熱陰極、電子加速極和作為陽極的鍍膜材料組成。電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中,使鍍膜材料局部達到高溫而蒸發(fā)。通過調節(jié)電子束的功率,可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率,特別是有利于高熔點以及高純金屬和化合物材料。物質的飽和蒸氣壓隨溫度的上升而增大,在一定溫度下,各種物質的飽和蒸氣壓不相同,且具有恒定的數(shù)值。相反,一定的飽和蒸氣壓必定對應一定的物質的溫度。珠海貴金屬真空鍍膜技術熱氧化是在一定的溫度和氣體條件下,使硅片表面氧化一定厚度的氧化硅的。主要有干法氧化和濕法氧化。
電子束蒸發(fā):將蒸發(fā)材料置于水冷坩堝中,利用電子束直接加熱使蒸發(fā)材料汽化并在襯底上凝結形成薄膜,是蒸度高熔點薄膜和高純薄膜的一種主要加熱方法。真空鍍膜技術一般分為兩大類,即物理的氣相沉積技術和化學氣相沉積技術。物理的氣相沉積技術是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子,直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質反應膜大多以物理的氣相沉積方法制得,它利用某種物理過程,如物質的熱蒸發(fā),或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現(xiàn)象,實現(xiàn)物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。
等離子體化學氣相沉積法,利用了等離子體的活性來促進反應,使化學反應能在較低的溫度下進行。優(yōu)點是:反應溫度降低,沉積速率較快,成膜質量好,不容易破裂。缺點是:設備投資大、對氣管有特殊要求。PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應氣體分子,就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于活動的狀態(tài)容易發(fā)生反應,以在襯底在300-350℃就可以得到良好的氧化硅或者氮化硅薄膜,可以在器件當中作為鈍化絕緣層,來提高器件的可靠性。磁控濺射常用于新型氧化物,陶瓷材料的鍍膜,電子束則用于對薄膜質量較高的金屬材料。
化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體,借助氣相作用或基體表面上的化學反應,在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。物理的氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材普遍、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復性好等優(yōu)點。同時,物理的氣相沉積技術由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下。真空鍍膜流程:前處理及化學清洗→襯底真空中烘烤加熱→等離子體清洗→金屬離子轟擊→鍍金屬過渡層→鍍膜。珠海貴金屬真空鍍膜技術
等離子體化學氣相沉積法,利用了等離子體的活性來促進反應,使化學反應能在較低的溫度下進行。珠海貴金屬真空鍍膜技術
PECVD的主要性能指標,PECVD設備的主要特點,該設備成膜種類為氮化硅,這種PECVD成膜均勻性好、穩(wěn)定性高。每片硅片間不均勻性誤差在5%之內,同一批硅片間的誤差在6%之內,不同批次硅片間誤差在7%之內。溫度要求比較低,成膜溫度為150℃~500℃,恒溫區(qū)溫度均勻,誤差范圍在2℃之內,并且在整個成膜過程中隨時間變化小,誤差范圍為2℃/24h之內。升溫時間較短,工作壓力范圍廣,恢復真空時間短,設備封閉性強并且具有溫度控制和計算機自動監(jiān)控等安全措施功能。除此之外,PECVD與一般CVD相比有更多的優(yōu)點。PECVD主要由工藝管及電阻加熱爐、凈化推舟系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、計算機控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)6大部分組成。珠海貴金屬真空鍍膜技術
廣東省科學院半導體研究所致力于電子元器件,是一家服務型公司。公司業(yè)務涵蓋微納加工技術服務,真空鍍膜技術服務,紫外光刻技術服務,材料刻蝕技術服務等,價格合理,品質有保證。公司從事電子元器件多年,有著創(chuàng)新的設計、強大的技術,還有一批**的專業(yè)化的隊伍,確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務。廣東省半導體所憑借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務、眾多的成功案例積累起來的聲譽和口碑,讓企業(yè)發(fā)展再上新高。
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