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產(chǎn)品關(guān)鍵詞:山西MEMS微納加工平臺(tái),微納加工
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基于光刻工藝的微納加工技術(shù)主要包含以下過(guò)程:掩模(mask)制備、圖形形成及轉(zhuǎn)移(涂膠、曝光、顯影)、薄膜沉積,山西MEMS微納加工平臺(tái)、刻蝕、外延生長(zhǎng),山西MEMS微納加工平臺(tái)、氧化和摻雜等。在基片表面涂覆一層某種光敏介質(zhì)的薄膜(抗蝕膠),曝光系統(tǒng)把掩模板的圖形投射在(抗蝕膠)薄膜上,光(光子)的曝光過(guò)程是通過(guò)光化學(xué)作用使抗蝕膠發(fā)生光化學(xué)作用,形成微細(xì)圖形的潛像,山西MEMS微納加工平臺(tái),再通過(guò)顯影過(guò)程使剩余的抗蝕膠層轉(zhuǎn)變成具有微細(xì)圖形的窗口,后續(xù)基于抗蝕膠圖案進(jìn)行鍍膜、刻蝕等可進(jìn)一步制作所需微納結(jié)構(gòu)或器件。高精度的微細(xì)結(jié)構(gòu)通過(guò)控制聚焦電子束(光束)移動(dòng)書寫圖案進(jìn)行曝光。山西MEMS微納加工平臺(tái)
微納加工中,材料濕法腐蝕是一個(gè)常用的工藝方法。材料的濕法化學(xué)刻蝕,包括刻蝕劑到達(dá)材料表面和反應(yīng)產(chǎn)物離開表面的傳輸過(guò)程,也包括表面本身的反應(yīng)。半導(dǎo)體技術(shù)中的許多刻蝕工藝是在相當(dāng)緩慢并受速率控制的情況下進(jìn)行的,這是因?yàn)楦采w在表面上有一污染層。污染層厚度常有幾微米,如果化學(xué)反應(yīng)有氣體逸出,則此層就可能破裂。濕法刻蝕工藝常常有反應(yīng)物產(chǎn)生,這種產(chǎn)物受溶液的溶解速率的限制。為了使刻蝕速率提高,常常使溶液攪動(dòng),因?yàn)閿噭?dòng)增強(qiáng)了外擴(kuò)散效應(yīng)。多晶和非晶材料的刻蝕是各向異性的。然而,結(jié)晶材料的刻蝕可能是各向同性,也可能是各向異性的,它取決于反應(yīng)動(dòng)力學(xué)的性質(zhì)。晶體材料的各向同性刻蝕常被稱作拋光刻蝕,因?yàn)樗鼈儺a(chǎn)生平滑的表面。各向異性刻蝕通常能顯示晶面,或使晶體產(chǎn)生缺陷。因此,可用于化學(xué)加工,也可作為結(jié)晶刻蝕劑。江西微納加工平臺(tái)在我國(guó),微納制造技術(shù)同樣是重點(diǎn)發(fā)展方向之一。
微納加工技術(shù)指尺度為亞毫米、微米和納米量級(jí)元件以及由這些元件構(gòu)成的部件或系統(tǒng)的優(yōu)化設(shè)計(jì)、加工、組裝、系統(tǒng)集成與應(yīng)用技術(shù),涉及領(lǐng)域廣、多學(xué)科交叉融合,其較主要的發(fā)展方向是微納器件與系統(tǒng)(MEMS)。微納器件與系統(tǒng)是在集成電路制作上發(fā)展的系列**技術(shù),研制微型傳感器、微型執(zhí)行器等器件和系統(tǒng),具有微型化、批量化、成本低的鮮明特點(diǎn),微納加工技術(shù)對(duì)現(xiàn)代的生活、生產(chǎn)產(chǎn)生了巨大的促進(jìn)作用,并催生了一批新興產(chǎn)業(yè)。在Si片上形成具有垂直側(cè)壁的高深寬比溝槽結(jié)構(gòu)是制備先進(jìn)MEMS器件的關(guān)鍵工藝,其各向異性刻蝕要求非常嚴(yán)格。高深寬比的干法刻蝕技術(shù)以其刻蝕速率快、各向異性較強(qiáng)、污染少等優(yōu)點(diǎn)脫穎而出,成為MEMS器件加工的關(guān)鍵技術(shù)之一。
微納制造技術(shù)不只是加工方法米),到納米級(jí)(千分之一微米),于是,“微的問(wèn)題,同樣是制造裝備的問(wèn)題。高精密納技術(shù)”這一概念就應(yīng)運(yùn)而生了。儀器設(shè)備及高精度制造、測(cè)量技術(shù)也是制微納技術(shù)在二十多年的發(fā)展過(guò)程中。約我國(guó)微納技術(shù)發(fā)展的因素之一。從剛開始的單純理論性質(zhì)的基礎(chǔ)研究衍生微機(jī)電系統(tǒng)的應(yīng)用領(lǐng)域出了許多細(xì)分。如微納級(jí)精度和表面形貌微型機(jī)電系統(tǒng)可以說(shuō)是目前的測(cè)量,微納級(jí)表層物理、化學(xué)、機(jī)械性能微納技術(shù)應(yīng)用較為普遍的了,如**集成的檢測(cè),微納級(jí)精度的加工和微納級(jí)表層微型儀器,微型機(jī)器人。微型慣性儀表.以的加工原子和分子的去除、搬遷和重組,以及小型、微型甚至是納米衛(wèi)星等。尤其是及納米材料納米級(jí)微傳感器和控制技術(shù)慣性儀表,它是指陀螺儀、加速度表和慣微型和超微型機(jī)械;微型和超微型機(jī)電系性測(cè)量平臺(tái),是航空、航天、航海中指示。在微納加工過(guò)程中,薄膜的形成方法主要為物理沉積、化學(xué)沉積和混合方法沉積。
掩模板是根據(jù)放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。例如,可以用平整的玻璃板,涂覆上金屬鉻薄膜,通過(guò)類似照相制版的方法制備而成。具有微納圖形結(jié)構(gòu)的掩模板通常使用電子束光刻機(jī)直接制備,其制作過(guò)程就是典型的光刻工藝過(guò)程,包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過(guò)程。由于模板像素超多,用掃描式光刻機(jī)制作掩模板的速度相當(dāng)慢,造價(jià)十分昂貴。曝光光刻是圖形形成的中心工藝過(guò)程,可分為正膠工藝和負(fù)膠工藝,采用相同掩模板制作時(shí),二者可獲得互補(bǔ)的圖形結(jié)構(gòu)。另外,按照不同工作距離可分為接近式曝光、近貼式曝光(接觸曝光)和投射式光學(xué)曝光;按照曝光系統(tǒng)的工作光源又可分為紫外線曝光、X射線與及紫外線曝光、電子束與離子束曝光。此外,微納印刷技術(shù)(,如納米壓印技術(shù),在納米結(jié)構(gòu)及器件制作中也得到了良好的發(fā)展,其高效的圖形復(fù)制特點(diǎn)使之在工業(yè)界極具吸引力。卷對(duì)卷滾軸壓印技術(shù)已經(jīng)被產(chǎn)線普遍采用。微納加工技術(shù)的特點(diǎn):微型化。山西MEMS微納加工平臺(tái)
微納制造技術(shù)研發(fā)和應(yīng)用標(biāo)志著人類可以在微、納米尺度認(rèn)識(shí)和改造世界。山西MEMS微納加工平臺(tái)
近年來(lái),激光技術(shù)的飛速發(fā)展使的激光蝕刻技術(shù)孕育而生,類似于激光直寫技術(shù),激光蝕刻技術(shù)通過(guò)控制聚焦的高能短波/脈沖激光束直接在基材上燒蝕材料并“雕刻”出微細(xì)結(jié)構(gòu)。它不但能夠?qū)崿F(xiàn)傳統(tǒng)意義的薄膜蝕刻,而且可以用來(lái)實(shí)現(xiàn)三維的微結(jié)構(gòu)制作。飛秒高峰值功率激光于有機(jī)聚合物的介質(zhì)的作用具有比較多科學(xué)上比較吸引人注目的特點(diǎn),其中,雙光子作用下的聚合作用已被成功運(yùn)用于三維納米結(jié)構(gòu)制作,可以制作出非常復(fù)雜、特殊的三維微細(xì)結(jié)構(gòu)。山西MEMS微納加工平臺(tái)
廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所致力于電子元器件,以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)***管理的追求。廣東省半導(dǎo)體所深耕行業(yè)多年,始終以客戶的需求為向?qū)?,為客戶提?**的微納加工技術(shù)服務(wù),真空鍍膜技術(shù)服務(wù),紫外光刻技術(shù)服務(wù),材料刻蝕技術(shù)服務(wù)。廣東省半導(dǎo)體所始終以本分踏實(shí)的精神和必勝的信念,影響并帶動(dòng)團(tuán)隊(duì)取得成功。廣東省半導(dǎo)體所創(chuàng)始人陳志濤,始終關(guān)注客戶,創(chuàng)新科技,竭誠(chéng)為客戶提供良好的服務(wù)。
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