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產(chǎn)品關(guān)鍵詞:黑龍江GaN材料刻蝕服務(wù),材料刻蝕
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詳細說明
硅材料在MEMS器件當中是很重要的一種材料。在硅材料刻蝕當中,應(yīng)用于醫(yī)美方向的硅針刻蝕需要用到各向同性刻蝕,縱向和橫向同時刻蝕,硅柱的刻蝕需要用到各項異性刻蝕,主要是在垂直方向刻蝕,而橫向盡量少刻蝕。氮化鎵基超表面結(jié)構(gòu)當中,氮化鎵材料的刻蝕需要使用氧化硅作為掩膜來刻蝕,而氧化硅的刻蝕需要使用Cr充當硬掩模。所以工藝當中,需要先在氮化鎵表面使用PECVD沉積一層氧化硅,采用剝離的方法在氧化硅表面生長一層Cr,使用ICP設(shè)備依次刻蝕氧化硅和氮化鎵。ICP刻蝕可以調(diào)節(jié)的刻蝕參數(shù)有:ICP 功率,功率值越大,等離子體密度越大,射頻功率,功率值越大,黑龍江GaN材料刻蝕服務(wù),黑龍江GaN材料刻蝕服務(wù),等離子體能量越大,物理濺射加強。GaN的刻蝕一般是采用氯氣和三氯化硼,黑龍江GaN材料刻蝕服務(wù),氣體比例的變化可以調(diào)節(jié)物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)的平衡。對于二氧化硅刻蝕,氣體一般使用CF4和氧的混合劑。黑龍江GaN材料刻蝕服務(wù)
在微細加工中,刻蝕和清洗處理過程包括許多內(nèi)容。對于適當取向的半導(dǎo)體薄片的鋸痕首先要機械拋光,以除去全部的機械損傷,之后進行化學(xué)刻蝕和拋光,以獲得無損傷的光學(xué)平面。這種工藝往往能去除以微米級計算的材料表層。對薄片進行化學(xué)清洗和洗滌,可以除去因操作和貯存而產(chǎn)生的污染,然后用熱處理的方法生長Si0(對于硅基集成電路),或者沉積氮化硅(對于砷化鎵電路),以形成初始保護層??涛g過程和圖案的形成相配合。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所。黑龍江GaN材料刻蝕服務(wù)當需要處理多層薄膜時,以及刻蝕中必須精確停在某個特定薄膜層而不對其造成損傷時。
等離子體刻蝕機要求相同的元素:化學(xué)刻蝕劑和能量源。物理上,等離子體刻蝕劑由反應(yīng)室、真空系統(tǒng)、氣體供應(yīng)、終點檢測和電源組成。晶圓被送入反應(yīng)室,并由真空系統(tǒng)把內(nèi)部壓力降低。在真空建立起來后,將反應(yīng)室內(nèi)充入反應(yīng)氣體。對于二氧化硅刻蝕,氣體一般使用CF4和氧的混合劑。電源通過在反應(yīng)室中的電極創(chuàng)造了一個射頻電場。能量場將混合氣體激發(fā)或等離子體狀態(tài)。在激發(fā)狀態(tài),氟刻蝕二氧化硅,并將其轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性成分由真空系統(tǒng)排出。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所。
刻蝕工藝主要分為兩種:干法刻蝕和濕法刻蝕。干法刻蝕是通過等離子氣與硅片發(fā)生物理或化學(xué)反應(yīng)(或結(jié)合物理、化學(xué)兩種反應(yīng))的方式將表面材料去除,主要用于亞微米尺寸下刻蝕,由于具有良好的各向異性和工藝可控性已被普遍應(yīng)用于芯片制造領(lǐng)域;濕法刻蝕通過化學(xué)試劑去除硅片表面材料,一般用于尺寸較大情況,目前仍用于干法刻蝕后殘留物的去除。金屬刻蝕主要應(yīng)用于金屬互連線、通孔、接觸金屬等環(huán)節(jié)。金屬互連線通常采用鋁合金,對鋁的刻蝕采用氯基氣體和部分聚合物。鎢在多層金屬結(jié)構(gòu)中常用作通孔的填充物,通常采用氟基或氯基氣體??涛g是用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程。
在GaN發(fā)光二極管器件制作過程中,刻蝕是一項很重要的工藝。ICP干法刻蝕常用在n型電極制作中,因為在藍寶石襯底上生長LED,n型電極和P型電極位于同一側(cè),需要刻蝕露出n型層。ICP是近幾年來很常用的一種離子體刻蝕技術(shù),它在GaN的刻蝕中應(yīng)用很普遍。ICP刻蝕具有等離子體密度和等離子體的轟擊能量單獨可控,低壓強獲得高密度等離子體,在保持高刻蝕速率的同事能夠產(chǎn)生高的選擇比和低損傷的刻蝕表面等優(yōu)勢。ICP(感應(yīng)耦合等離子)刻蝕GaN是物料濺射和化學(xué)反應(yīng)相結(jié)合的復(fù)雜過程??涛gGaN主要使用到氯氣和三氯化硼,刻蝕過程中材料表面表面的Ga-N鍵在離子轟擊下破裂,此為物理濺射,產(chǎn)生活性的Ga和N原子,氮原子相互結(jié)合容易析出氮氣,Ga原子和Cl離子生成容易揮發(fā)的GaCl2或者GaCl3。等離子體刻蝕機要求相同的元素:化學(xué)刻蝕劑和能量源。黑龍江GaN材料刻蝕服務(wù)
干法刻蝕也可以根據(jù)被刻蝕的材料類型來分類,如刻蝕氮化鎵、氧化硅、氮化硅、鋁鎵氮等材料。黑龍江GaN材料刻蝕服務(wù)
經(jīng)過前面的一系列工藝已將光刻掩膜版的圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上。為了制作元器件,需將光刻膠上的圖形進一步轉(zhuǎn)移到光刻膠下層的材料上。這個任務(wù)就由刻蝕來完成??涛g就是將涂膠前所淀積的薄膜中沒有被光刻膠(經(jīng)過曝光和顯影后)覆蓋和保護的那部分去除掉,達到將光刻膠上的圖形轉(zhuǎn)移到其下層材料上的目的。光刻膠的下層薄膜可能是二氧化硅、氮化硅、多晶硅或者金屬材料。材料不同或圖形不同,刻蝕的要求不同。實際上,光刻和刻蝕是兩個不同的加工工藝,但因為這兩個工藝只有連續(xù)進行,才能完成真正意義上的圖形轉(zhuǎn)移,而且在工藝線上,這兩個工藝經(jīng)常是放在同一工序中,因此有時也將這兩個步驟統(tǒng)稱為光刻。黑龍江GaN材料刻蝕服務(wù)
廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所致力于電子元器件,是一家服務(wù)型的公司。廣東省半導(dǎo)體所致力于為客戶提供良好的微納加工技術(shù)服務(wù),真空鍍膜技術(shù)服務(wù),紫外光刻技術(shù)服務(wù),材料刻蝕技術(shù)服務(wù),一切以用戶需求為中心,深受廣大客戶的歡迎。公司將不斷增強企業(yè)重點競爭力,努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識,遵守行業(yè)規(guī)范,植根于電子元器件行業(yè)的發(fā)展。在社會各界的鼎力支持下,持續(xù)創(chuàng)新,不斷鑄造***服務(wù)體驗,為客戶成功提供堅實有力的支持。
文章來源地址: http://www.cdcfah.com/cp/3091432.html
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