當(dāng)前位置:首頁(yè)?產(chǎn)品供應(yīng)?電子元器件?電子材料、零部件、結(jié)構(gòu)件 ?半導(dǎo)體材料
按行業(yè)瀏覽
深圳硅材料刻蝕平臺(tái) 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
濕刻蝕:較普遍、也是設(shè)備成本較低的刻蝕方法。其影響被刻蝕物之刻蝕速率(etchingrate)的因素有三:刻蝕液濃度、刻蝕液溫度,深圳硅材料刻蝕平臺(tái)、及攪拌(s...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-20 09:23:17
深圳ITO鍍膜真空鍍膜廠家 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,即物理的氣相沉積技術(shù)和化學(xué)氣相沉積技術(shù)。物理的氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-20 07:19:56
福建MEMS微納加工價(jià)錢 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
在微納加工過程中,薄膜的形成方法主要為物理沉積、化學(xué)沉積和混合方法沉積。蒸發(fā)沉積(熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā))和濺射沉積是典型的物理方法,福建MEMS微納加工價(jià)錢,主要...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-20 06:20:12
河北微納加工服務(wù)價(jià)格 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
聚合物微納系統(tǒng)是較具應(yīng)用前景的微納機(jī)電系統(tǒng)之一,按照微納制品的空間結(jié)構(gòu)形式可以分為一維、二維和三維微納制造。一維微納制造:微流控芯片、導(dǎo)光板、納米薄膜、微納過濾...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-20 05:19:12
廣東等離子體增強(qiáng)氣相沉積真空鍍膜加工廠 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
在高真空下,電子qiang燈絲加熱后發(fā)射熱電子,被加速陽(yáng)極加速,獲得很大的動(dòng)能轟擊到的蒸發(fā)材料上,把動(dòng)能轉(zhuǎn)化成熱使蒸發(fā)材料加熱氣化,而實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。電子束蒸發(fā)源...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-20 03:16:51
山東氮化鎵材料刻蝕加工平臺(tái) 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
刻蝕原理介紹主要工藝參數(shù)刻蝕液更換頻率的管控刻蝕不良的產(chǎn)生原因單擊此處編輯母版標(biāo)題樣式單擊此處編輯母版標(biāo)題樣式刻蝕工藝介紹辛小剛刻蝕原理介紹刻蝕主要工藝參數(shù)刻蝕...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-20 03:16:51
四川電子束蒸發(fā)真空鍍膜加工平臺(tái) 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
PECVD生長(zhǎng)氧化硅薄膜是一個(gè)比較復(fù)雜的過程,薄膜的沉積速率主要受到反應(yīng)氣體比例、RF功率、反應(yīng)室壓力、基片生長(zhǎng)溫度等。在一定范圍內(nèi),四川電子束蒸發(fā)真空鍍膜加工...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-20 02:17:55
廣東材料刻蝕服務(wù)價(jià)格 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
刻蝕也可以分成有圖形刻蝕和無(wú)圖形刻蝕。有圖形刻蝕采用掩蔽層(有圖形的光刻膠)來(lái)定義要刻蝕掉的表面材料區(qū)域,只有硅片上被選擇的這一部分在刻蝕過程中刻掉。有圖形刻蝕...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-20 01:16:46
遼寧ITO鍍膜真空鍍膜價(jià)錢 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
熱氧化是在一定的溫度和氣體條件下,使硅片表面氧化一定厚度的氧化硅的,遼寧ITO鍍膜真空鍍膜價(jià)錢。主要有干法氧化和濕法氧化,干法氧化是在硅片表面通入氧氣,硅片與氧...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-20 00:27:43
湖北半導(dǎo)體材料刻蝕價(jià)錢 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
對(duì)于被刻蝕材料和掩蔽層材料(例如光刻膠)的選擇比SR可通過下式計(jì)算:SR=Ef/Er;其中,Ef為被刻蝕材料的刻蝕速率,Er為掩蔽層材料的刻蝕速率(如光刻膠);...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-19 08:21:44
上海磁控濺射真空鍍膜價(jià)格 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類,即物理的氣相沉積技術(shù)和化學(xué)氣相沉積技術(shù)。物理的氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下,利用各種物理方法,將鍍料氣化成原子,上海磁控濺射真空鍍膜...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-19 07:19:58
北京氧化硅材料刻蝕版廠家 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
二氧化硅濕法刻蝕:較普通的刻蝕層是熱氧化形成的二氧化硅?;镜目涛g劑是氫氟酸,北京氧化硅材料刻蝕版廠家,它有刻蝕二氧化硅而不傷及硅的優(yōu)點(diǎn),北京氧化硅材料刻蝕版廠...
[半導(dǎo)體材料]2021-01-19 07:19:58