發(fā)信息 做推廣 就找產(chǎn)品網(wǎng)企業(yè)電商信息綜合服務(wù)平臺
當(dāng)前位置:首頁?產(chǎn)品供應(yīng)?電子元器件?電子材料、零部件、結(jié)構(gòu)件 ?半導(dǎo)體材料
按行業(yè)瀏覽
云南GaN材料刻蝕廠商 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
等離子體刻蝕機要求相同的元素：化學(xué)刻蝕劑和能量源。物理上，等離子體刻蝕劑由反應(yīng)室、真空系統(tǒng)、氣體供應(yīng)、終點檢測和電源組成。晶圓被送入反應(yīng)室，云南GaN材料刻蝕廠...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-23 00:29:22
浙江氮化鎵材料刻蝕外協(xié) 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
二氧化硅的干法刻蝕：刻蝕原理氧化物的等離子體刻蝕工藝大多采用含有氟碳化合物的氣體進行刻蝕。使用的氣體有四氟化碳(CF)、八氟丙烷(C，F(xiàn)8)、三氟甲烷(CHF3...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-22 10:26:16
佛山ICP材料刻蝕外協(xié) 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
基本工藝要求理想的刻蝕工藝必須具有以下特點：①各向異性刻蝕，即只有垂直刻蝕，沒有橫向鉆蝕。這樣才能保證精確地在被刻蝕的薄膜上復(fù)制出與抗蝕劑上完全一致的幾何圖形；...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-22 09:24:54
廣州氧化硅材料刻蝕價錢 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
“刻蝕”指用化學(xué)和物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料，是晶圓制造中不可或缺的關(guān)鍵步驟?？涛g技術(shù)按工藝可以分為濕法刻蝕與干法刻蝕，其中干法刻蝕是目前8英寸...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-22 09:24:54
吉林深硅刻蝕材料刻蝕版廠家 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
材料的濕法化學(xué)刻蝕，包括刻蝕劑到達材料表面和反應(yīng)產(chǎn)物離開表面的傳輸過程，也包括表面本身的反應(yīng)。如果刻蝕劑的傳輸是限制加工的因素，則這種反應(yīng)受擴散的限制。吸附和解...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-22 08:27:08
珠海氮化鎵材料刻蝕加工 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
刻蝕是使用化學(xué)或者物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要材料的過程，常用的設(shè)備為刻蝕機等。通常的晶圓加工流程中，刻蝕工藝位于光刻工藝之后，有圖形的光刻膠層在刻蝕中...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-22 08:27:08
遼寧氮化硅材料刻蝕廠家 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
濕法刻蝕是將刻蝕材料浸泡在腐蝕液內(nèi)進行腐蝕的技術(shù)，是利用合適的化學(xué)試劑先將未被光刻膠覆蓋的晶片部分分解，然后轉(zhuǎn)成可溶的化合物達到去除的目的。濕法刻蝕是刻蝕的一種...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-22 07:24:28
吉林氧化硅材料刻蝕加工工廠 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
理想情況下，晶圓所有點的刻蝕速率都一致（均勻）。晶圓不同點刻蝕速率不同的情況稱為非均勻性（或者稱為微負載），吉林氧化硅材料刻蝕加工工廠，通常以百分比表示。減少非...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-22 06:25:49
福建MEMS光刻 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
光聚合型，可形成正性光刻膠，是通過采用了烯類單體，在光作用下生成自由基從而進一步引發(fā)單體聚合，較后生成聚合物的過程；光分解型光刻膠可以制成正性膠，福建MEMS光...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-22 06:25:49
天津氧化硅材料刻蝕工藝 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
經(jīng)過前面的一系列工藝已將光刻掩膜版的圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上。為了制作元器件，需將光刻膠上的圖形進一步轉(zhuǎn)移到光刻膠下層的材料上。這個任務(wù)就由刻蝕來完成?？涛g就是將涂膠...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-22 03:19:12
黑龍江ICP材料刻蝕加工 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
等離子體刻蝕機要求相同的元素：化學(xué)刻蝕劑和能量源。物理上，等離子體刻蝕劑由反應(yīng)室，黑龍江ICP材料刻蝕加工、真空系統(tǒng)、氣體供應(yīng)、終點檢測和電源組成。晶圓被送入反...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-22 00:29:43
河北GaN材料刻蝕平臺 廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所供應(yīng)
等離子刻蝕是將電磁能量（通常為射頻（RF））施加到含有化學(xué)反應(yīng)成分（如氟或氯）的氣體中實現(xiàn)。等離子會釋放帶正電的離子來撞擊晶圓以去除（刻蝕）材料，并和活性自由基...
[半導(dǎo)體材料]2020-12-21 12:29:00
